Mentor Graphics EDA介绍(四)--Calibre

目录

Calibre 的主要功能

1. 设计规则检查(DRC)

2. 布局与原理图一致性检查(LVS)

3. 设计规则修正(DRC Fixup)

4. 制造可行性检查(DFM)

5. 模式验证(Pattern Verification)

6. 多角分析(Multi-Corner Analysis)

7. 统计分析(Statistical Analysis)

Calibre 的特点

1. 高精度

2. 高性能

3. 多角分析能力

4. 集成与自动化

Calibre 的应用场景

1. 集成电路设计

2. 先进工艺节点

3. 汽车电子

4. 医疗设备

Calibre 的工作流程

示例:使用 Calibre 进行基本 DRC 和 LVS 验证

1. 导入设计数据

2. 定义验证规则

3. 运行验证

4. 分析结果

5. 生成报告

总结


 

Calibre 是 Mentor Graphics(现为 Siemens Digital Industries Software 的一部分)开发的一款用于集成电路(IC)设计验证的工具。Calibre 是业界广泛认可的物理验证系统(Physical Verification System, PVS),主要用于确保设计符合制造工艺的要求,并且能够满足设计规则检查(DRC)、布局与原理图一致性检查(LVS)、设计规则修正(DRC Fixup)以及制造可行性检查(DFM)等多方面的验证需求。

Calibre 的主要功能

1. 设计规则检查(DRC)

Calibre 支持全面的设计规则检查,确保设计符合制造商的技术规范。

  • 几何规则检查:检查几何形状是否符合设计规则。
  • 间距规则检查:检查元件之间的最小间距是否满足要求。
  • 层叠规则检查:检查不同层之间的相互关系是否正确。

2. 布局与原理图一致性检查(LVS)

Calibre 支持布局与原理图一致性检查,确保设计的布局与原理图完全一致。

  • 元件数量一致性检查:检查布局中的元件数量是否与原理图匹配。
  • 连接一致性检查:检查布局中的连接关系是否与原理图一致。
  • 属性一致性检查:检查布局中的元件属性是否与原理图匹配。

3. 设计规则修正(DRC Fixup)

Calibre 提供了设计规则修正功能,帮助设计者快速修复设计中的违规项。

  • 自动修正:支持自动修正设计中的违规项。
  • 手动修正:支持手动修正设计中的违规项,并提供修正建议。

4. 制造可行性检查(DFM)

Calibre 支持制造可行性检查,确保设计能够顺利制造。

  • 制造规则检查:检查设计是否符合制造工艺的要求。
  • 良率预测:预测设计的良率,帮助设计者优化设计以提高良率。
  • 光刻掩模验证:验证光刻掩模的质量,确保制造过程中的良率。

5. 模式验证(Pattern Verification)

Calibre 支持模式验证,确保光刻掩模上的图案与设计一致。

  • 图案一致性检查:检查光刻掩模上的图案是否与设计一致。
  • 缺陷检测:检测光刻掩模上的缺陷,确保制造质量。

6. 多角分析(Multi-Corner Analysis)

Calibre 支持在不同的工艺、电压、温度(PVT)条件下进行分析,确保设计在各种环境下都能正常工作。

7. 统计分析(Statistical Analysis)

Calibre 支持统计分析,帮助设计者评估设计的统计特性。

  • 变异分析:分析设计中的变异情况,帮助设计者优化设计以减少变异。
  • 统计良率预测:基于统计模型预测设计的良率。

Calibre 的特点

1. 高精度

Calibre 使用先进的算法和技术,提供高精度的验证结果,确保设计满足严格的制造要求。

2. 高性能

Calibre 采用了高效的计算方法,能够在短时间内完成大规模电路的设计验证工作,提高了设计效率。

3. 多角分析能力

Calibre 支持在不同的工艺、电压、温度(PVT)条件下进行分析,确保设计在各种环境下都能正常工作。

4. 集成与自动化

Calibre 与 Mentor Graphics 的其他工具紧密集成,支持从设计到仿真的无缝对接,并支持自动化流程和脚本编写。

Calibre 的应用场景

1. 集成电路设计

在集成电路设计中,Calibre 可以帮助设计者进行设计规则检查、布局与原理图一致性检查、设计规则修正以及制造可行性检查,确保设计符合所有的制造要求。

2. 先进工艺节点

在先进工艺节点(如 7nm、5nm 及以下)的设计中,Calibre 可以帮助设计者应对复杂的制造规则和工艺挑战,确保设计的良率和可靠性。

3. 汽车电子

在汽车电子设备设计中,Calibre 可以帮助设计者进行设计规则检查和制造可行性检查,确保设计在恶劣环境下的性能和可靠性。

4. 医疗设备

在医疗设备设计中,Calibre 可以帮助设计者进行设计规则检查和制造可行性检查,确保设计的安全性和可靠性。

Calibre 的工作流程

  1. 导入设计数据:导入需要验证的电路设计数据,如 GDSII 文件、LEF 文件等。
  2. 定义验证规则:定义验证规则,如 DRC 规则、LVS 规则等。
  3. 运行验证:执行设计规则检查、布局与原理图一致性检查、设计规则修正以及制造可行性检查。
  4. 分析结果:分析验证结果,识别设计中的问题并优化设计。
  5. 生成报告:生成详细的验证报告,记录验证结果。

示例:使用 Calibre 进行基本 DRC 和 LVS 验证

假设我们需要对一个集成电路设计进行 DRC 和 LVS 验证,需要使用 Calibre 进行设计。

1. 导入设计数据

导入需要验证的电路设计数据。

 

plaintext

深色版本

1read gdsii design.gds
2read lef design.lef

2. 定义验证规则

定义验证规则,如 DRC 规则、LVS 规则等。

 

plaintext

深色版本

1set_drc_rules -file drc_rules.drc
2set_lvs_rules -file lvs_rules.lvs

3. 运行验证

执行设计规则检查和布局与原理图一致性检查。

 

plaintext

深色版本

1run_drc
2run_lvs

4. 分析结果

分析验证结果,识别设计中的问题并优化设计。

 

plaintext

深色版本

1report_drc
2report_lvs

5. 生成报告

生成详细的验证报告。

 

plaintext

深色版本

1write_drc_report drc_report.pdf
2write_lvs_report lvs_report.pdf

总结

Calibre 是一款用于集成电路设计验证的工具,通过提供设计规则检查、布局与原理图一致性检查、设计规则修正以及制造可行性检查等功能,确保设计符合所有的制造要求。Calibre 的高精度和高性能使其成为现代复杂数字设计不可或缺的一部分,尤其适用于集成电路设计、先进工艺节点、汽车电子和医疗设备等领域的 IC 设计验证。

 

1、安装PADS9.5 首先将PADS9.5.zip解压,解压后会出现一个PADS9.5_mib.exe的可执行文件,双击运行“PADS9.5_mib.exe”(Windows 7系统请右键点击选择“以管理员身份运行”) 提示需要硬件狗,点击“Next” 提示没有检测到授权文件,点击“Skip” 点击“Agree”,同意协议 点击“Modify”,进入配置安装环境界面 点击“Produc t Selection”,选择你需要安装的工具,一般选择PADS Layout、PADS Router、Design Entry(PADS Logic躲在这里)、Libraries等(因为是单机运行,Server Service就不用安装了) 点击“Target Path”,设置PADS9.5的安装位置 点击“PADS Projects Path”,设置PADS9.5的项目文件位置 配置完成,点击“Done” 点击“Install”开始安装 安装完毕时会提示注册, 选择“at later time”,最后点击“Done”完成安装。 2、开始和谐之旅 打开命令提示符口(大家可以将Mentorkg的文件夹下文件复制到PADS9.5的安装目录下,直接运行MentorKG.exe试验一下) mentorkg -patch X:\***\MentorGraphics\9.5PADS(X:\***为pads9.5的安装路径) 等待……会产生LICENSE.TXT,请一定记得保存!!!将文件另存为LICENSE.TXT(网上也有人另存为LICENSE.DAT,好像也没有啥问题),文件最好放在PADS9.5的安装目录下。 3、添加环境变量->系统变量,变量名:MGLS_LICENSE_FILE,变量值:LICENSE.TXT的位置,如: MGLS_LICENSE_FILE = C:\MentorGraphics\LICENSE.TXT。 至此操作完毕。 补充:PADS9.5不需要替换MGLS.DLL。
参考资源链接:[Calibre Pattern Matching提升DFM线端强化的图形化解决方案](https://wenku.csdn.net/doc/1gbifxbx7v?utm_source=wenku_answer2doc_content) 在集成电路制造领域,DFM的线末端强化是提升良率和可靠性的重要步骤。为了应对这一挑战,Calibre Pattern Matching提供了一种高效的图形化解决方案。通过使用Calibre Pattern Matching,设计师可以图形化地识别和分析版图中的线末端图形,这一过程不需要复杂的编程技能,大大简化了规则集的编写和维护工作。 具体来说,Calibre Pattern Matching能够通过捕捉特定的设计图案,自动将这些图案转换为标准格式(如GDS或OASIS),进而允许设计师在图形界面上直接进行操作。这种图形化的操作不仅提高了设计效率,而且减少了因编码错误或规则冲突导致的生产缺陷。 此外,Calibre Pattern Matching技术在实施线末端强化时,能够直观地识别出合规区域,避免了线末端延长量设置中的潜在问题。通过这种方式,可以有效减少不良过孔的风险,从而提升整个芯片的制造质量。 然而,要充分利用Calibre Pattern Matching技术的优势,设计团队必须对工具的使用和制造过程中的各种问题(例如光刻回退或失准)有深入的理解和应对措施。这样才能确保DFM的最佳实践得以实施,最终实现良率和可靠性的最大化提升。 如果你希望深入了解Calibre Pattern Matching如何帮助提升DFM的线末端强化效果,推荐阅读《Calibre Pattern Matching提升DFM线端强化的图形化解决方案》。这本书详细介绍Calibre Pattern Matching的技术细节、应用方法以及在实际案例中的效果,是集成电路设计和制造领域不可或缺的参考资料。 参考资源链接:[Calibre Pattern Matching提升DFM线端强化的图形化解决方案](https://wenku.csdn.net/doc/1gbifxbx7v?utm_source=wenku_answer2doc_content)
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