半导体照明用光刻胶系列(RD-2000、RD-4000、RD-6000、RD-NL700等系列)的参数介绍

目前半导体光刻胶常使用曝光波长分类,主要有 g 线、i 线、KrF、ArF 和先进的 EUV光刻胶,其中 DUV 光刻机分为干法和浸润式,因此 ArF 光刻胶也对应分为干法和浸润式两类。

半导体照明用光刻胶

1.应用领域:

半导体照明领域的具体应用包括:图案化蓝宝石衬底(PSS)制作;LED芯片制作等。

2. 技术参数:

半导体照明用光刻胶主要技术参数:

半导体照明用光刻胶系列主要包括:RD-2000、RD-4000、RD-6000、RD-NL700等系列,不同系列光刻胶的主要技术参数如下:

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