抠图中的前景蒙版（alpha matte）与掩膜（mask）的区别

（1）什么是掩膜（mask）?

数字图像处理中的掩膜的概念是借鉴于PCB制版的过程，在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图片“底片”称为掩膜（也称为“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。

图像掩膜与其类似，用选定的图像、图形或物体，对处理的图像（全部或局部）进行遮挡，来控制图像处理的区域或处理过程。

光学图像处理中，掩膜可以是胶片、滤光片等。数字图像处理中，掩膜为二维矩阵数组，有时也用多值图像。数字图像处理中，图像掩膜主要用于：

1. 提取感兴趣区域（ROI，region of interest）,用预先制作的感兴趣区掩膜与待处理图像相乘，得到感兴趣区图像，感兴趣区内图像值保持不变，而区外图像值都为0。

2. 屏蔽作用，用掩膜对图像上某些区域作屏蔽，使其不参加处理或不参加处理参数的计算，或仅对屏蔽区作处理或统计。

3. 结构特征提取，用相似性变量或图像匹配方法检测和提取图像中与掩模相似的结构特征。

4. 特殊形状图像的制作。

掩膜是一种图像滤镜模板，实际掩膜经常处理的是遥感图像。当提取道路或者河流或者房屋时，通过一个n*n的矩阵来对图像进行像素过滤，然后将我们需要的地物或者标志突出显示出来。这个矩阵就是一种掩膜。

（2）Alpha matte(Alpha 混合、前景蒙版)
前景蒙版（alpha matte）：也称前景透明度或透明度蒙版，是前背景分离的结果，是一个灰度图，每一个像素点的灰度值表示原始图像每个像素属于前景物体的程度，白色代表某一个像素确定属于前景，黑色代表某一个像素确定属于背景。

（3）Alpha matte和Mask的区别
可以这么说，Mask是Matte的一种特例。在Mask里，只有两种透明度，1和0，即完全透明和完全不透明。Mask的产生是为了去除合成时的锯齿而设计的，但锯齿没了，不过合成痕迹太明显，显得很不真实。而Matte则可以包含很多层次的透明度，图像中每个像素都可以有自己的透明度，这些像素的透明度有着丰富的层级，可以合成、融合。

注意：Mask和Matte在国内被翻译成遮罩或者蒙版，而且使用很混乱，从来没有哪本书仔细的区分遮罩和蒙版，这两个中文概念已经混乱。所以建议大家使用英文单词，就是Mask或者Matte。

注意：Unmatted Alpha，即不带蒙版的Alpha，Matted Alpha（带有背景色蒙版的Alpha）,前者将素材的透明信息存放在独立的Alpha通道中，后者则不仅保存了素材Alpha通道中的透明信息，而且还包含有背景RGB通道的透明量。

Reference：https://wenku.baidu.com/view/4a7d5b44336c1eb91a375d11.html
转载：https://blog.csdn.net/program_developer/article/details/80924168