多孔GaN的结构和光学特性

华林科纳123

于 2022-04-27 17:00:46 发布

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本文通过铂辅助化学蚀刻法研究了多孔氮化镓的结构和光学性能。随着蚀刻时间增加，孔隙密度增大，但孔隙大小和形状受影响不大。拉曼光谱显示高孔隙密度样品中存在应力松弛。光传输测量表明孔隙密度增加导致光传输减少，影响材料的光学性能。

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摘要

本文报道了铂辅助化学化学蚀刻制备的多孔氮化镓的结构和光学性能。扫描电镜图像显示，孔隙的密度随着蚀刻时间的增加而增加，而蚀刻时间对孔隙的大小和形状没有显著影响。原子力显微镜测量结果表明，表面粗糙度随着蚀刻时间的延长而增加；然而，由于蚀刻时间较长，表面粗糙度的增加变得不显著。拉曼光谱结果表明，在一些多孔样品中，没有两种禁止模式，即A1(TO)和E1(TO)。光传输测量表明，孔隙密度的增加会导致光传输的减少。研究表明，氮化镓的结构和光学性能可能受到孔隙率的影响。

实验结果和讨论

图1显示了不同蚀刻时间下多孔氮化镓样品的AFM测量结果。15、30、60和90min样品的均方根(RMS)表面粗糙度分别为5.7、7.1、15.8、30.8和32.9nm。从AFM测量中，我们注意到样品的均质根时间随着蚀刻时间的延长而增加。RMS的增加与从15min到60min的蚀刻时间成正比，但在60min，即90min后，RMS的进一步增加不显著。扫描电镜图像可以进一步支持这些观察结果，如图所示。表面形态随蚀刻时间逐渐改变，15分钟的蚀刻样品，无孔隙形成脊和谷，30分钟的蚀刻会加深蚀刻区，随着孔隙密度的增加进一步增加，但蚀刻时间为90min，蚀刻过程似乎达到饱和阶段，SEM和AFM测量显示，孔隙密度和表面粗糙度变化不大。