TPAMI 2024|用于持续学习的基于广义差异的分布稳健记忆演化

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Distributionally Robust Memory Evolution With Generalized Divergence for Continual Learning

用于持续学习的基于广义差异的分布稳健记忆演化

Zhenyi Wang o, Li Shen , Tiehang Duan , Qiuling Suo o, Le Fang , Wei Liu ,Mingchen Gao


摘要

持续学习(Continual Learning, CL)的目标是在非静态数据分布上学习,同时不忘记先前的知识。现有依赖于记忆重放的方法,随着模型趋于过度拟合存储的示例,其有效性会随时间降低。结果,模型泛化能力受到显著限制。此外,这些方法经常忽视记忆数据分布的固有不确定性,这与之前所有数据示例的分布有显著差异。为了克服这些问题,我们提出了一个原则性的记忆演化框架,通过分布式鲁棒优化(Distributionally Robust Optimization, DRO)动态调整记忆数据分布,使记忆缓冲区越来越难以记忆。我们考虑了DRO中的两种约束:f-散度和Wasserste

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IEEE TPAMIIEEE Transactions on Pattern Analysis and Machine Intelligence)是一个涵盖模式识别、计算机视觉、图像处理和机器学习等领域的高质量期刊,其中也包括用于缺陷检测的研究。 以下是一些在IEEE TPAMI期刊上发表的用于缺陷检测的论文: 1. "Automatic Defect Detection in X-Ray Images Using Convolutional Neural Networks"(使用卷积神经网络自动检测X射线图像中的缺陷)-- 该论文提出了一种基于卷积神经网络(CNN)的自动缺陷检测方法,该方法可以应用于各种类型的X射线图像中的缺陷检测。 2. "Unsupervised Defect Detection in Textured Materials Using Convolutional Autoencoders"(使用卷积自动编码器在纹理材料中进行无监督缺陷检测)-- 该论文提出了一种基于卷积自动编码器(CAE)的无监督缺陷检测方法,该方法可以有效地检测纹理材料中的缺陷。 3. "A Hierarchical Approach to Defect Detection in Semiconductor Wafer Images"(半导体晶圆图像缺陷检测的分层方法)-- 该论文提出了一种基于分层方法的缺陷检测方法,可以应用于半导体晶圆图像中的缺陷检测。 4. "Deep Learning-Based Defect Detection in Semiconductor Manufacturing"(基于深度学习的半导体制造中的缺陷检测)-- 该论文提出了一种基于深度学习的缺陷检测方法,可以应用于半导体制造中的缺陷检测,并且在实验中取得了良好的结果。 这些论文都展示了IEEE TPAMI作为一个重要的期刊,提供了广泛的研究和应用领域,包括缺陷检测。
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