集成电路制造工艺
江湖人·92
一个人的江湖,一个人流浪;一个人的天涯,一个人闯荡
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芯片边界效应
       随着深亚微米工艺的发展,CMOS制造工艺对设计的影响也越来越大。在0.18um以前都可以忽略的工艺影响,在工艺一步一步发展的情形下,制造工艺所带来的影响变成了芯片设计中不可忽视的因素。本文诠释了制造工艺的两个重要效应:STI、WPE。通过对两种效应的分析,提出了在芯片设计阶段考虑它们的必要性。特别是针对IP模块级别的设计,本文给出了在电路设计阶...转载 2019-01-31 15:26:47 · 5272 阅读 · 0 评论 -
半导体制程发展史
半导体制程发展史——大杀器级别文献 ...转载 2019-01-23 11:44:01 · 11339 阅读 · 0 评论