光刻机随感

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背景

过程

搜光刻机原理

读《芯片制造》

觉得简单说明什么

反思


背景

今天看新闻,华为的Mate40没有芯片了,Intel的芯片设计文档被泄漏了,又想到了光刻机,想到了至今为止尚未到货的ASML的EUV光刻机。还有那句,“即使把光刻机的图纸给你们也造不出来”。胡适老先生要求读取既要精也要博。虽然在下常年混迹于软件领域。但毕竟软件这个“肉”还是得存在于硬件这个“骨”上,算是相关性很强的一个点。再加上那么一丢丢情怀,于是就去研究了下芯片制造中光刻机的作用。

过程

搜光刻机原理

首先,用软件解决问题的思维,看了下光刻机原理

图片
光刻机原理图

这张经典的图片看起来真的没有那么难。于是就特别想知道,我们到底搞不出来的是哪一块。但是,想想上海微电子已经可以量产90nm的光刻机,那就意味着我们是有完整体系的,只是在加工精度上还要进一步的提高。好像我们在高精度机床领域也是这个问题,单轴加工精度可以达到国际水平,但是多轴比如5轴,或者7轴,差距就大了,差距就在精度。

读《芯片制造》

既然光刻机用于芯片制造,那么到底是怎么造的呢?搜索到了《芯片制造--半导体工艺制程使用教程》这本翻译的国外教材。上来先阅读了 第8章 基本图形化工艺流程--从表面准备到曝光,第9章 基本图形化工艺流程--从显影到最终检验,第10章 高级光刻工艺。从中了解到光刻的对准,涂胶,软烘焙,曝光,显影,硬烘焙,检测,刻蚀,去胶等9个过程,以及围绕精度展开的工艺问题。其中大部分问题,就是光的问题,光的能量控制,衍射,散射,反射,感光控制等。毕竟,最先进的EUV光源,波长只有13.5nm,误差小于一个波长,精确程度可想而知。所有问题的单位是100纳米以内,咱们目前也能达到90nm制程。在这个颗粒度下去发现问题,需要的条件太多了。个人YY下,需要一个达到这个级别的显微设备,对光在空间里的传播过程控制到1个波长,需要的理论知识,还有精密控制,我都搞不定。

觉得简单说明什么

简单是图片的原理说明简单,但是硬件和软件不同。软件是,咱们知道原理,就可以去实现,实践中达不到要求可以再做调优,甚至像服务端软件,1台不行咱用2台。但硬件不行,一方面芯片都是一次性的,再调优的成本很高,毕竟原材料已经被加工过了。还有,硬件的工艺问题更明显,比如我们知道需要特定波长的光,但到底怎么样才能获得又是需要很多次的实验才行。最后,硬件生产涉及的面更多,空气温度、湿度、氧化问题,水分问题,电流,电压,成分配比等,这可不是软件的二进制0和1这么简单。当然,如果人类能够精确控制原子核和电子,那就另说了,至少现在不行。

反思

1. 必须得承认隔行如隔山,硬件生产和软件生产是不同的;

2. 国家确实需要强基,毕竟对光的控制即使有原理,还得有材料才行;

3. 曾经想航模运动促进人们了解航空知识,光刻机模型应该也可以让更多人了解光刻机。但航模至少可以给人带来快乐,光刻机模型给人们带来了什么呢,似乎很难和人们的日常生活相关,想必即使有这样的模型,人们也不会像购买航模一样的去买。

 

 

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