本发明涉及显示技术领域,特别是指一种oled显示基板及其制作方法、显示装置。
背景技术:
基于现有显示产品,尤其是手机显示屏实现裸眼3d显示效果,存在ppi(像素密度)低、信息量少、3d视角小等缺陷,易使人产生头晕,且用户体验不佳。为了解决这些问题,可以提高显示产品的像素密度,从而实现高分辨率裸眼3d显示,但现有的oled显示基板是通过构图工艺将阳极图形化,由于构图工艺精度的限制,oled显示基板的ppi很难提升。
技术实现要素:
本发明要解决的技术问题是提供一种oled显示基板及其制作方法、显示装置,能够提高oled显示基板的像素密度,进而能够基于oled显示基板实现裸眼3d显示效果。
为解决上述技术问题,本发明的实施例提供技术方案如下:
一方面,提供一种oled显示基板的制作方法,包括:
在形成oled显示基板的阳极之前,采用纳米压印工艺在oled显示基板的像素区域形成多个阻隔墙,所述阻隔墙将每一像素区域分割成多个子像素区域;
形成覆盖所述阻隔墙的阳极材料层;
去除所述阳极材料层远离所述oled显示基板的衬底基板的一部分,暴露出所述阻隔墙,所述阻隔墙将所述阳极材料层分割成多个阳极图形,每一所述阳极图形位于一所述子像素区域内。
可选地,形成所述阻隔墙之前,所述方法还包括:
形成像素界定层,所述像素界定层限定出所述像素区域。
可选地,形成所述像素界定层和所述阻隔墙包括:
采用纳米压印工艺同时形成所述像素界定层和所述阻隔墙。
可选地,所述去除所述阳极材料层远离所述oled显示基板的衬底基板的一部分包括:
利用化学机械抛光工艺对所述阳极材料层进行磨平处理。
本发明的实施例提供了一种oled显示基板,采用如上所述的制作方法制作得到。
可选地,所述阻隔墙远离所述衬底基板一侧表面的宽度不大于100nm。
可选地,所述子像素区域的宽度小于1微米。
可选地,所述阻隔墙在第一方向上的截面为三角形或梯形,所述第一方向垂直于所述衬底基板且垂直于所述阻隔墙的延伸方向。
可选地,所述三角形的底角大于60°;或所述梯形的底角大于60°。
本发明的实施例提供了一种显示装置,包括如上所述的oled显示基板。
本发明的实施例具有以下有益效果:
上述方案中,采用纳米压印工艺在oled显示基板的像素区域形成多个阻隔墙,之后形成阳极材