光刻

ASML , NIKON ,CANON 光刻机

ASML have better performance than others when the wave length shirnk below to 193nm. for exampl:CDU control, throughput ....
The most of top semiconductor companys use ASML tool for critical layers or all layers, ex:INTEL,AMD,TSMC,UMC,...

总体说来ASML的确是占有统治性的优势，市场占有率上，ASML NO1,NIKON NO2,CANON NO3，但各家有各家的优点，不同系列的机台也有着不同的市场占有率。对于I-LINE来说，CANON的价格比ASML便宜不少，但功能上绝对能满足I线的layer的要求了，而且throughput也只比ASML的two stage低一点，所以比较受欢迎。在KrF,ArF以及浸没式上ASML有着明显的优势，Canon确实没法比，Nikon的能和ASML拼一下，据说NIKON的ArF机台也有着相当不错的性能。
Nikon由于有Intel这样的大款傍，所以市场占有率比Canon高。

让大家讨论优缺点，结果都说一些其他的

3种机器我都用过
ASML 最好的， 性能好， 人性化，易维修，就是价格贵。
NIKON, 除了没体会到的LENS 比较好外，其他就是垃圾。
CANON 很稳定，没什么特点。

还有，日本技术非常保密，MANUAL 都不给，垃圾。我做了4年，只懂ASML其他的都没感觉。

光刻是生产半导体元件时的一个工业步骤，该步骤将印在光掩膜上的外形结构转移到基质的表面上。光刻与印刷术中的平版印刷的工艺过程类似。

基质一般是硅晶体的芯片，也可以是其他半导体的芯片。玻璃、蓝宝石或者金属也可以作为基质。
http://zh.wikipedia.org/wiki/%E5%85%89%E5%88%BB