晶圆代工28nm制程市场动向

2015-08-21 拓墣 集邦DRAMeXchange

虽然先进制程的代工市场正迈入16/14nm,但目前仍以28nm制程需求量最大,且中国的晶圆代工厂即将加入此竞局,因此本篇报告将讨论2015年28nm制程纯晶圆代工厂的市场变化与动向。

一.28nm制程仍是晶圆制造最大市场

随着制程技术的发展,晶圆制造厂不断开发更先进与精密的制程,而一般以45/40nm制程为分界,包含45/40nm以上制程为成熟制程,而45/40以下为先进制程,如32/28nm制程、20nm制程、16/14nm制程。

虽然先进制程的代工市场正迈入16/14nm,但目前仍以28nm制程市场需求量最大,纯晶圆代工厂台积电与GlobalFoundries的28nm制程占总制程营收比重都超过3成,甚至达4成,虽然联电28nm制程较晚进入量产时程,但联电28nm制程占比正快速增加中,自2014年正式量产后,至今28nm制程占比从1%拉升至9%。

对晶圆代工市场,20nm甚至16/14nm制程为未来全球半导体制造代工业产值续成长的最大动能,未来成长潜力大于相较成熟的28nm制程,但28nm制程市场仍有成长空间,并且仍是目前最大市场。

根据拓墣产业研究所(TRI)统计,2014年全球纯晶圆代工厂的产值,28nm制程市场占比是45/40nm制程的1.6倍,是20nm制程的4.8倍,因此28nm制程市场仍相当重要,28nm制程的市场变化强烈影响各大晶圆代工厂营收表现。

2014年全球纯晶圆代工厂产值比重


Source:拓墣产业研究所,2015/05

28nm制程总体可分为2类,分别为High-k/Metal Gate(HKMG)及poly/SiON,HKMG指的就是金属栅极/高介电常数绝缘层结构,相对HKMG的是poly/SiON多晶硅氮氧化硅,poly/SiON功耗表现较好且价格较低,两者晶圆价格差距约500美元,但HKMG可提供较佳的效能表现,因此运算取向与高阶电子产品多采用HKMG。

poly/SiON vs. HKMG 性能与成本示意


Source:拓墣产业研究所,2015/05

poly/SiON与HKMG两者主要差距在栅极相关制程不同,栅极下方的绝缘层一般为二氧化硅SiO2,或采用氮氧化硅SiON,但随着制程的微缩,晶体管越来越小,晶体管中栅极下方的绝缘层也越来越薄;但厚度降低会增加电子穿隧效应发生的可能,使电子有机会穿越过位能障壁而产生漏电流,因此部分先进制程开始在栅极下方绝缘层采用比SiO2或SiON更高介电常数的设计,高介电常数技术能有效降低栅极的漏电量,还能减小栅极电容,使晶体管得以更进一步微缩。

poly/SiON vs. HKMG 差异示意图


Source:拓墣产业研究所,2015/05

实际上HKMG的设计在45nm制程已被业界所采用,但在纯晶圆代工厂则至32/28nm制程才开始采用;其中HKMG则可再划分为Gate-First与Gate-Last,2种制程主要差别在形成金属栅极与离子植入及高温退火的顺序,Gate-First与Gate-Last各有优势,目前纯晶圆代工厂中GlobalFoundries采用Gate-First,而台积电与联电则采用Gate-Last。

二.28nm制程市占以台积电为首

一般先进制程定义为包含32/28nm以下制程,至2014年全球半导体产业中仅8家拥有32/28nm制程晶圆制造量产的能力,IDM厂部份包含Intel、IBM、Samsung、ST、Panasonic,而纯晶圆代工厂则有台积电、GlobalFoundries与联电;2015年起GlobalFoundries正式接手IBM半导体部门及所有晶圆厂,但台积电仍稳坐28nm纯晶圆代工厂中市占第一的位子,其2014年台积电28nm制程总产值达85亿美元。

2014年全球28nm制程纯晶圆代工厂市占


Source:拓墣产业研究所,2015/05

台积电提供HKMG与poly/SiON 2种28nm制程,其中划分为5种制程版本,分别为HP(High Performance)、HPM(High Performance Mobile)、HPC (High Performance Computing)、HPL(High Performance Low Power)与LP(Low Power),其中LP属于poly/SiON制程,为台积电最早推出的28nm制程产品,而HP、HPM、HPC与HPL属于HKMG制程,其中4种HKMG制程皆属于Gate-Last。

台积电仍持续规划并推出其他改良版本,针对目前所推出的5种28nm制程版本,分别主攻不同市场与应用,LP一般针对要求较低待机功耗的产品与低成本产品,目前产品包括穿戴式装置相关芯片、手机基频芯片及主打低阶智能型手机市场的应用处理器芯片等,代表性采用的产品为Qualcomm Snapdragon 400与200系列芯片。

相对于LP的是HP,HP为台积电推出的第一个用HKMG制程,拥有极佳性能表现,主要针对CPU、GPU、FPGA、PC与网络传输芯片等,而为了平衡性能与功耗的市场需求,台积电另推出HPL,HPL效能表现居于HP与LP,但漏电低于HP甚至LP,适合手机基频芯片与无线通信芯片等。

后来台积电再推出HPM与HPC,分别定位于高阶与中低阶SoC芯片,HPM为可提供高效能表现,代表性曾采用的产品为Qualcomm Snapdragon 800系列芯片,为Qualcomm智能型手机应用处理器芯片中最高阶产品,而随着晶圆代工厂持续推出更先进的制程,目前这些高阶产品部分陆续转入更先进制程,因此针对行动装置与消费性电子等产品,台积电将28nm制程主力放在定位中低阶SoC芯片的HPC。

台积电28nm制程


Source:台积电;拓墣产业研究所整理,2015/05

联电28nm制程量产时程较台积电与GlobalFoundries晚,但其贡献联电营收表现抢眼,根据联电2015年第一季财报,合并营业收入为376.5亿元新台币,较2014年同期成长约18.8%,目前28nm制程占比已达9%,估计仍将持续成长,其中联电供应2种28nm制程,分别为采用poly/SiON制程的HLP(High-Performance Low Power)与采用HKMG制程的HPM(High Performance for Mobile),联电的HLP可对应为台积电的LP,而联电的HPM市场定位接近台积电的HPM与HPC。

联电28nm制程


Source:联电;拓墣产业研究所整理,2015/05

联电28nm HKMG制程采用与台积电相同的Gate-Last设计,GlobalFoundries则采用Gate-First。根据了解,GlobalFoundries虽有生产28nm poly/SiON制程的能力,但并没有正式对客户提供此制程,因此目前主要提供的3种28nm制程版本HPP(High Performance Plus)、LPH(Low Power,High Performance)与SLP(Super Low Power)皆属于HKMG制程。

GlobalFoundries的SLP定位适合手机基频与应用处理器芯片,也适合其他行动装置与消费性电子产品的网络与无线传输芯片,而HPP则定位应用在高性能网络与有线传输芯片;另外,还有LPH扩大其操作频率,市场锁定中高阶智能型手机与平板机和NB。

GlobalFoundries 28nm制程


Source:GlobalFoundries;拓墣产业研究所整理,2015/05

三.未来28nm制程市场动向

根据过去各家28nm制程所提供的产品及2014年全球纯晶圆代工厂产值统计,台积电28nm制程产品布局最广且拥有最大市占,而评估目前半导体市场的景气,2015年半导体晶圆代工市场成长力道将不如2014年,但整体仍持续成长,28nm制程的市场仍由台积电稳守市占第一的位子;其次是GlobalFoundries,其中值得注意联电未来的表现,虽然2014年市占仅达1.3%,但根据其良率提升与产能扩充的状况,联电2015年较2014年28nm制程将有机会挑战3倍以上的高年成长率。

由于28nm制程目前被广泛应用在行动装置与智能型手机的应用处理器、基频芯片及无线通信等相关芯片,因此28nm制程将有助联电获取行动装置与智能型手机等相关芯片订单,进而影响联电的产品结构,2014年第三季通讯相关应用达54%,2015年第一季更站上56%,估计未来28nm制程将持续让联电通讯类产品维持在50%以上。

另外,中国最大晶圆代工厂中芯国际也会在2015年宣布量产28nm制程,原本各界预计于2016年后才有机会量产28nm制程的中芯国际,在Qualcomm的合作与协助下,预计2015年中~2015年底间即有机会开始贡献营收,但预计中芯国际2015年可开出的产能对市场影响并不大,但届时必定成为科技业与金融业相关报导的头条,并对全球半导体业造成极大压力。

2015年全球纯晶圆代工厂产值比重


Source:拓墣产业研究所,2015/05

中芯国际一开始可达量产的28nm制程为poly/SiON制程,官方尚未对此命名,在此先暂称为LP(Low Power),主要将用做生产Qualcomm主打低阶智能型手机市场的Snapdragon 200系列芯片,根据中芯国际的规划,未来中芯国际28nm制程也将提供HKMG制程,在此先暂称为HP(High Performance),而目前市场都一致认为中芯国际的HKMG制程与台积电及联电一样都属于Gate-Last的设计。

虽然初期Qualcomm仅将Snapdragon 200系列芯片部分交由中芯国际生产,但预计未来也会将Snapdragon 400系列芯片部份订单转移至中芯国际,但根据目前Qualcomm积极寻找多方28nm制程晶圆代工供货商,未来即使中芯国际开始提供28nm制程,Qualcomm仍不会独利中芯国际,仍会将订单分散至各供货商。

中芯国际28nm制程


Source:中芯国际;拓墣产业研究所整理,2015/05

预计2015年28nm制程市场的亮点将在联电的良率与扩产、中芯国际的量产与台积电推出更新版本的28nm制程。

联电2015年第一季28nm制程营收占比成长至9%,根据未来将再开出产能及良率提升的曲线,虽目前终端市场成长力道不如预期,但联电28nm制程在2015年第二季占比仍有机会续提升至11以上%。

面对28nm制程市场更多供货商的加入,台积电为稳固客户与定价及毛利,台积电推出改良版本的28nm制程,分别为HPC+(High Performance Computing Plus)与ULP(Ultra-Low Power)。HPC+为HPC的改良版本,效能再提升,而ULP则为LP的改良版,提供更低功耗,终端市场定位在低阶手机基频芯片与应用处理器芯片;另外,此版本为台积电对未来穿戴式装置与物联网的布局之一,估计未来台积电28nm制程的重心会放在HPC+与ULP。

 纯晶圆代工厂的28nm制程布局


Source:拓墣产业研究所整理,2015/05

四.TRI观点

(一) 28nm为联电2015年成长动能
联电28nm制程量产时程较台积电与GlobalFoundries晚,但其贡献营收表现抢眼,目前28nm制程占比已达9%,估计仍将持续成长。根据其良率提升与产能扩充的状况,联电2015年较2014年的28nm制程将有机会挑战3倍以上的高年成长率。

(二) 中芯国际2015年将量产28nm制程
中芯国际在Qualcomm协助下,预计2015年中~2015年底即有机会宣布28nm制程进入量产,但根据初期可开出的产能,中芯国际2015年量产对市占影响并不大,而首先量产poly/SiON制程,主要将用做生产Qualcomm主打低阶智能型手机市场的Snapdragon 200系列芯片,但预计未来中芯国际也有机会获得Snapdragon 400系列芯片的部份订单。

(三) 台积电28nm制程布局最广,并再推两版本新28nm制程
面对更多供货商加入28nm制程市场,台积电再推出改良版28nm制程HPC+与ULP。HPC+为HPC的改良版本,效能再提升,而ULP则为LP的改良版,提供更低功耗,此版本不仅主攻低阶智能型手机芯片,也瞄准未来低功耗需求的穿戴装置及物联网市场,未来台积电28nm制程的重心发展将放在HPC+与ULP。

转载于:https://my.oschina.net/amtf/blog/495778

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