xrd计算晶面间距_PVD涂层应力测试技术新进展XRD篇

PVD涂层应力测试技术新进展-XRD篇01        前言

国际上，SANDVIK、KENNAMETAL、SECO等PVD涂层厂家与PLATIT、KOBELCO、BLAZERS等PVD设备厂家均认为在涂层研发过程中涂层内应力检测必不可少，是最重要的检测指标之一，在其相应的涂层专利中均有涂层内应力的相关规定。

目前残余应力分析技术主要可以分为以下几大类：衍射法、应力释放法和物理量转化类方法。衍射法通过X射线或中子衍射谱反映材料内部晶面间距的大小或者相对变化，反演应力。应力释放法是在应力作用位置去除部分材料后，通过测量去除材料附近区域的前后变形来实现对原应力状态的推算。物理量化转化类方法包括力学与非力学方法。如压痕法或利用声场、磁场等进行应力检测方法。

其中，应用最广的是X射线衍射法与应力释放法。物理量化转化类通常只能获得大概趋势，较难获得精确数值。应力释放法优点在于对分析对象的材料要求宽松，晶体或非晶材料均可以进行分析，缺点为半无损或有损检测，检测时需要破坏样品。而X射线衍射法只能用于晶体材料，对材料的晶体结构也有要求，优点是无损检测，不需要破坏样品。

由于X射线衍射法，是唯一不损伤样品，可直接对原始样品进行测试的检测手段，因此是测试PVD涂层应力最适合的方法。

02        行业前沿

XRD测试结晶材料残余应力的理论已经提出了几十年，而且从理论上说已经较完善。它是利用应力使晶格常数发生畸变，导致衍射峰位偏移的原理，针对单个或多个晶面的峰位偏移量进行测试，通过公式计算得到应力值。如图1，根据实际需要，测量方式有同倾、侧倾、掠入射等。

但实际应用时，仍存在许多问题。以PVD涂层应力测试为例：

 (1)材料结晶程度影响：当物相本身的结晶程度较差，峰形宽化严重时，很难判断物相的实际峰位，难以得到可靠的应力测试值。

(2)“重叠峰”的影响。一是涂层物相之间的干扰，如TiAlN、TiCN、TiN等均为面心立方结构，晶格常数也较为接近。当涂层较薄、峰强度低或晶粒细小时，每个相的具体峰位难以区分，难以计算实际应力。二是基体相的干扰，如PVD涂层往往仅有2-3μm，WC衍射峰也会干扰涂层相峰位的判断。

(3)不同深度涂层的应力。当存在多层涂层时，特定深度涂层的应力值难以测得。

图1 侧倾法和掠射法测试示意图

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(4)相转变及织构的影响。涂层在基体表面沉积过程中，随着工艺不同，可能生成不同晶格常数的固溶相。如果物相发生不完全的变化，测得的峰位偏移就不单是由于应力改变引起，计算出来的结果很可能没有意义。另外，由于PVD涂层很薄，织构对检测结果的影响很大。如采用侧倾法测试涂层应力时，图形往往出现“单调弯曲”或“震荡”的现象，无法得到准确结果(图2)。

a)单调弯曲	b)震荡
图2 “织构影响”示意图

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这些已存在的问题，先后有多位学者进行深入研究。但多数仍没有行之有效的解决方案。如Doelle从晶体弹性力学出发，推导出“H晶面法”，认为可解决“织构影响”。但Noyan和Hauk分别发现黄铜和纯铜的(222)晶面的2θ-sin2ψ振荡现象，又否定了该方法。

也有文献给出了X射线入射深度校正及通过剥离涂层测得不同深度应力的实例，但实际操作起来相当困难，也难以证明得到的应力值为实际值。特别是近年涂层工艺的发展，有“千层”的概念出现，同相涂层或异相涂层的叠加层数增多，也难以用原先的通过“理论修正”的思路进行研究。

L.Lutterotti则提出X射线衍射和反射是进行薄膜性能如晶体结构、微结构、织构和残余应力的理想工具，但传统分析方法的局限性是当有两个物理特征(比如织构和应力，相/多层的数目和织构，或厚度和应力)太强，单一分析方法不适用。推荐用组合方法来克服以上多数或所有的困难。

总的来说，采用XRD进行PVD涂层应力测试，以得到准确的结果，仍是个难题。

SANDVIK、KENNAMETAL等行业领头企业相关专利虽然有提及应力检测，但都没有涉及或回避了这些问题。

03        分测中心技术进展

分析测试技术研究中心的衍射仪为德国Bruker D8 DISCOVER，如图3，配备有①织构附件

(尤拉环，可实现样品水平和垂直方向的转动)②微区衍射附件(0.05-2mm准直管)③点-线焦斑快速切换的靶材④二维面探测器(快速接收大范围信息)，可实现涂层应力测试的多种方式。

图3 仪器示意图

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针对PVD应力测试的多个难题，分测中心专门设立项目组进行立项研究。目前达到研发目标：

1)针对硬质合金基PVD涂层建立了侧倾法和掠射法两种检测方式。其中，侧倾法适用于Ti(Al,Si,Cr..)N单层涂层(或有TiN打底层)的测试。掠射法适用于①Ti(Al,Si,Cr..)N单层涂层(或有TiN打底层)②TiN-Ti(Al,Si,Cr..)N涂层③AlN-Ti(Al,Si,Cr..)N④TiAlN-Ti(Si,Cr..)N涂层。

①应力值可量化，限定条件下有唯一解；②方法稳定性RSD<5%。

2)解决了现阶段在集团内部仅是基于文献理论与经验进行涂层内应力调整的问题。解决了由于涂层本身特性，XRD应力测试难以实际应用的难题。创造性提出用PSI分段取值法表征侧倾法分析结果；用全谱拟合法替代传统单峰分析法表征掠射法分析结果。

在试样满足可测性的前提下，采用新方法可以定量分析单层及多层涂层的残余应力；可以分别表征不同物相的残余应力；可以定量涂层由表及里的应力分布等。方法有较好的准确性与稳定性。在实际应用中取得良好效果。

如图4，为工艺人员设计的四个试样。厚度有所不同。理论上，偏压越大，涂层的残

余应力越大。测试结果如表1。可以看到测试值完全符合理论趋势。

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图4

表1 残余应力测试结果

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责编：江嘉鹭

                                                  美编：连   媛