Mentor工具简介

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Calibre物理验证系列 〓 Calibre DRC 　　作为工作在展平模式下的设计规则检查（DRC）工具，Calibre DRC先展平输入数据库，然后对展平的几何结果进行操作。   〓 Calibre DRC-H 　　作为Calibre DRC的选项，Calibre DRC-H确保层次化的DRC成为可能，层次化设计规则检查维持数据库的层次化结构，并且充分利用设计数据的层次化关系减少数据处理时间、内存使用和DRC检查结果数量。对于确定类型的芯片而言，DRC-H要比在展平模式下的Calibre快几个数量级。层次化处理对于0.35μm或以下工艺，规模达到或者超过百万晶体管的芯片设计优势更加明显。Calibre DRC-H通常可以和设计规则检查(DRC)以及光学工艺校正(OPC)配合使用。 〓 Calibre LVS 　　作为Mentor Graphics公司工作在展平模式下的版图与原理图对照（LVS）工具，Calibre LVS先展平输入数据库，然后对展平的几何结果进行操作。 〓 Calibre LVS-H 　　作为Calibre LVS的选项，Calibre LVS-H确保层次化的LVS成为可能，层次化版图与原理图对照维持数据库的层次化结构，并且充分利用设计数据的层次化关系减少数据处理时间、内存使用和LVS错误结果数量。对于确定类型的芯片而言，LVS-H要比展平模式下的Calibre快一个数量级。层次化处理对于0.35μm或以下工艺，规模达到或者超过百万晶体管的芯片设计优势更加明显。 〓 Calibre Multithreaded 　　Calibre MT(多线程)采用最先进的并行处理技术加速基于多CPU工作站和服务器的层次化DRC、LVS、ORC、OPCpro和PRINTimage处理。Calibre DRC 和Calibre LVS所有产品都支持多线程的能力，并可以通过命令行选项“-turbo”实现多线程能力的调用。并且通过多线程方式实现性能的加速无需修改规则文件、网络管理以及任何其它的配置。取决于具体应用的规则和版图数据，双处理器上可以提升性能到1.6倍，八处理器上性能的提升达到4-7倍。多线程的能力在普通的Calibre使用授权中可以直接应用。Calibre运行多线程功能时将自动检出另外的基本授权，以下是检出附加的授权比率列表： 〓 Calibre CI 　　Calibre CI（连接接口）支持第三方对通过LVS-H数据命名为版图多边形数据的反标信息的访问。Calibre LVS-H运行结束后，用户可以访问SVDB目录下工业标准格式的数据（GDS、SPICE网表）。Calibre CI提供一系列可以从Calibre Query Server中调用的命令自动生成这些数据。 〓 Calibre Interactive 　　Calibre Interactive是可以从用户熟悉的版图工具中直接调用实施交互方式单元和模块验证的Calibre物理验证环境。Calibre Interactive进一步扩充了Calibre产品线。 〓 Calibre DESIGNrev 　　Calibre DESIGNrev可以迅速装载和观察数据量巨大（几个G字节）GDSII版图数据。高级的编辑能力支持GDSII格式的快速修改和处理。Calibre DESIGNrev 和其他的Calibre工具紧密连接，例如Calibre Interactive和Calibre RVE，提供最有效的错误可视化、调试和重新验证，因而带来全芯片验证和出带可观的时间节省。 〓 Calibre RVE/QDB-H 　　Calibre RVE/QDB-H是Calibre的功能强大的图形化调试和结果观察工具。支持在用户喜欢的版图编辑器或浏览器上观察和修正报告的错误或差异，在原理图和版图之间实现交互探测以及网表浏览。图形化工具RVE（结果观察环境）可以从QDB（查询数据服务器）取得Calibre结果数据，并且为编辑器或浏览器提供数据。RVE通过普通的插槽接口实现同编辑器或者浏览器的通讯，这种通讯机制确保RVE支持几乎所有的编辑器。目前支持的编辑器包括IC Station、Virtuoso和SX 9000。同时也提供一个RVE集成工具包（RVE Integration Toolkit）帮助用户更加容易地集成其它的编辑器和浏览器。RVE支持Calibre DRC、Calibre LVS和Calibre ORC的分析结果。 〓 Calibre MGC 　　Calibre MGC实现与Mentor Graphics公司Falcon Framework框架结构之间的接口，透过Calibre MGC可以获得面向LVS和寄生提取处理的EDDM设计数据。 Calibre 寄生参数提取系列 〓 Calibre xRC