封装级的失效未来怎么搞
die级的失效又怎么搞
在超摩尔时代,在制程上TSMC已经来到了5nm+了,gate尺寸其实不可能低于一个原子的。
那怎么继续维持摩尔定律的面子,继续让资本与市场有信心呢。
那就在封装上动心思啊,封装对于国内来说是一个机会,可能弯道超车。
硅通孔技术(TSV,Through Silicon Via)、2.5D Interposer、3D IC、Fan-Out等这些新的封装技术对于我们来说,已经来临。我们现在的好多项目已经验证通过。SI,PI仿真已经完成,板级,die级别的可靠性验证已经在进行。
那么问题来了,大尺寸、大功耗、先进封装的芯片失效了面临更多的可靠性问题,比如interposer会发生EM,比如板级更容易出现warpage,比如出现热功耗导致的加速老化等。
这些失效对于问题的闭环来说是难点,为了提高产品的可靠性是不利的。
这是我思考的问题,现在对于这些失效我们要有一个预判,路阻且长的。
无损的热点检测技术thermal emmi 是一个很有效的手段,phase值定位到失效热点的位置。
除了这条,还有其他的吗?有比如3D-xray会是另一个会大量使用的测试工具。