Monte Carlo分析是一种器件参数变化分析,使用随机抽样估计来估算数学函数的计算的方法。它需要一个良好的随机数源。这种方法往往包含一些误差,但是随着随机抽取样本数量的增加,结果也会越来越精确。
Monte Carlo 分析和工艺角分析的区别如图1:
矩形框中表示四个不同工艺角的覆盖范围,曲线表示用Monte Carlo分析得到的实际电路工艺偏差(一般满足高斯分布)。从图中可以看出,满足工艺角变化的范围不一定能完全满足覆盖实际工艺变化范围,因此要用Monte Carlo分析得到工艺角变化的概率,以得到电路的良率。
要想详细了解蒙特卡洛可以阅读下面的文章:
https://pan.baidu.com/s/1bwmSasySuO4JEycPIVhC-Q
- 蒙特卡洛仿真
我们要进行蒙特卡洛分析首先要明确工艺库是否支持,如果这个工艺库不支持蒙特卡洛仿真,那就要自己写相关的失配模型,而且就算工艺库支持蒙特卡洛仿真,我们也不能完全相信,尽量去仿真验证。这个模型很复杂,尽量找一个现有的模板来写,另外MOS管的
是失配的主要来源,而且有些工艺库对阈值电压的估计过于乐观,我们可以使用拉扎维的
(
是栅氧厚度,单位是埃,1埃=0.1nm)的阈值电压模型来估计失配,并且用来验证工艺库中失配文件正确性。
下图是对某工艺的蒙特卡洛仿真HSPICE文件,分别对1.8V器件和5V器件在不同的W和L下进行200次蒙特卡洛仿真。
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