如何解决半导体制造中显影造成的Mura

在半导体制造过程中，Mura 是由于光刻机的不均匀性造成的图像失真。解决 Mura 的方法包括：

1. 使用更高质量的光刻机，以确保更均匀的光输出。
2. 定期校准光刻机，以确保它始终保持在最佳工作状态。
3. 使用更高质量的光刻胶，以减少光刻过程中的失真。
4. 在光刻之前进行光学校正，以确保光在曝光过程中的分布是均匀的。
5. 使用多种曝光方法，如极化曝光或多次曝光，以进一步减少 Mura。

通过采取这些措施，可以大大减少 Mura 在半导体制造过程中造成的影响。