EUV光刻机的光学系统仿真是指使用计算机软件对光学系统进行模拟,从而预测光刻机的性能表现。EUV光刻机的光学系统由多个部分组成,其中最重要的部分是反射式凸面镜组和光刻镜。这些部分的参数包括:
- 光学分辨率:指在一定条件下,光刻机能够分辨的最小特征尺寸。
- 成像误差:指光刻机在成像过程中出现的误差,例如畸变、球差等。
- 焦距:指光学系统的焦点位置,也是成像质量的一个重要参数。
- 波长:指EUV光刻机使用的波长,通常为13.5纳米。
- 光源亮度:指EUV光刻机使用的光源的强度。
- 光源的空间及时间稳定性:指EUV光刻机使用的光源的空间和时间稳定性。
- 光刻镜和凸面镜的