高NA物镜聚焦的分析

摘要

高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。

建模任务

概观

光线追迹仿真

•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。

•点击Go！

•获得3D光线追迹结果。
 

光线追迹仿真

•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。

•单击Go！

•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。

场追迹仿真

•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。

•单击Go！

场追迹结果（摄像机探测器）
 

•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。

•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。

Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
 

 

场追迹结果（电磁场探测器）

•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。

文件信息