设计和分析GRIN扩散器（完整）

教程565（1.0） 1.模拟任务    本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。  设计包括两个步骤： - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。  设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前，我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 照明光束参数   波长：632.8nm 激光光束直径（1/e2）：700um 理想输出场参数   直径：1° 分辨率：≤0.03° 效率：>70% 杂散光：<20% 2.设计相位函数    相位的设计请参考会话编辑器  Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。  设计没有离散相位级的phase-only传输。 3.计算GRIN扩散器  GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板，和一个折射率调制的丙烯酸薄层。  最大折射率调制为△n=+0.05。  最大层厚度如下： 4.计算折射率调制 从IFTA优化文档中显示优化的传输  将传输相位转变为实部，通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。  生成正向函数，通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。  乘以最大调制折射率（0.05），通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。    将数据转换成数据阵列：Manipulation→Create Numerical Data Array（参见下一张）。    数据阵列可用于存储折射率调制。  选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。  插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 5.X/Y采样介质      GRIN扩散器层将由双界面元件模拟。  这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。  元件厚度对应于层厚度12.656μm。  折射率调制由采样x/y调制介质模拟。    基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。  折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。  应该选择像素化折射率调制。    优化的GRIN介质是周期性结构。  只优化和指定一个单周期。  介质必须切换到周期模式。周期是 1.20764μm×1.20764μm。 6.通过GRIN介质传播      通过折射率调制层传播的传播模型： - 薄元近似 - 分步光束传播方法。  对于这个案例，薄元近似足够准确。  在传播面板上选择传播方法，并且编辑传播设置。  场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm（半像素尺寸）。 7.模拟结果 角强度分布 （参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd） 8.结论    VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。  优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。  可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。