教程565(1.0) 1.模拟任务 本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 设计包括两个步骤: - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 ![](https://i-blog.csdnimg.cn/blog_migrate/e17653b2f7ac061f2f4c7bb579add06d.png) 照明光束参数 波长:632.8nm 激光光束直径(1/e2):700um ![](https://i-blog.csdnimg.cn/blog_migrate/cf85955f052f5257afa0b078110d7dcd.png) 理想输出场参数 直径:1° 分辨率:≤0.03° 效率:>70% 杂散光:<20% ![](https://i-blog.csdnimg.cn/blog_migrate/e89e9b2a4dc12802decc3df8cbb31b8b.png) 2.设计相位函数 ![](https://i-blog.csdnimg.cn/blog_migrate/1821ba7633b425f412cd86b2c53c0b0d.png) 相位的设计请参考会话编辑器 Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 设计没有离散相位级的phase-only传输。 3.计算GRIN扩散器 GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 最大折射率调制为△n=+0.05。 最大层厚度如下: 4.计算折射率调制 ![](https://i-blog.csdnimg.cn/blog_migrate/08f68bab7474b1e3737a1e588dc11be6.png) 从IFTA优化文档中显示优化的传输 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 ![](https://i-blog.csdnimg.cn/blog_migrate/ea5e6c1b2dd217ccb41f8d41f010b421.png) 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 ![](https://i-blog.csdnimg.cn/blog_migrate/24032b9961f097bd24083a57e9536ff4.png) 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 ![](https://i-blog.csdnimg.cn/blog_migrate/4a430e1e87532977b7cf24aed4e43883.png) 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 ![](https://i-blog.csdnimg.cn/blog_migrate/6e7d9b84b79fc8823ef6ea5def067970.png) ![](https://i-blog.csdnimg.cn/blog_migrate/fa02afd077d4532e5303887720110ce3.png) 数据阵列可用于存储折射率调制。 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 5.X/Y采样介质 ![](https://i-blog.csdnimg.cn/blog_migrate/fa5686fe3503f1f6a9a58e3772a5566e.png) GRIN扩散器层将由双界面元件模拟。 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 元件厚度对应于层厚度12.656μm。 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。 ![](https://i-blog.csdnimg.cn/blog_migrate/9491cd3629bb4cd0566404c278024873.png) ![](https://i-blog.csdnimg.cn/blog_migrate/93ce6426f1cc46079a3f10bef87402ca.png) 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 应该选择像素化折射率调制。 ![](https://i-blog.csdnimg.cn/blog_migrate/e77000a22a4d29ef7ca1b382ab5c587e.png) ![](https://i-blog.csdnimg.cn/blog_migrate/14cfa5f8ea4ef2969f2bf99d3ffffe82.png) 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 介质必须切换到周期模式。周期是 1.20764μm×1.20764μm。 6.通过GRIN介质传播 ![](https://i-blog.csdnimg.cn/blog_migrate/c9036621ae30fdd6c6ab3ec230f83b86.png) ![](https://i-blog.csdnimg.cn/blog_migrate/26db432b9fd7727dedab50cbfd02b93f.png) 通过折射率调制层传播的传播模型: - 薄元近似 - 分步光束传播方法。 对于这个案例,薄元近似足够准确。 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 7.模拟结果 ![](https://i-blog.csdnimg.cn/blog_migrate/ab54eee0b858b675251ea86e06d5a01b.png) 角强度分布 (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd) 8.结论 VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。 |