杂散光好书分享《FRED操作手册上、下》

目  录
 
第一章 FRED概述 1
1.1 WHAT IS FRED？ 1
1.2 FRED与传统软件之间有什么不同？ 1
1.3 FRED名词术语 2
1.4 FRED用户界面 7
第二章 光源 16
2.1 简易光源 16
2.1.1 简易光源的建立 16
2.1.2 复杂光源(简易光源对话框内) 17
2.1.3 准直光源（平面波） 19
2.1.4 激光二极管光束（像散高斯） 22
2.1.5 激光光束（TEM00模式） 24
2.1.6 点光源 27
2.1.7 M2高斯光束 28
2.1.8 相干光 32
2.2 复杂光源 49
2.2.1复杂光源的创建与编辑 49
2.2.2创建新的与编辑/查看复杂光源对话框 51
2.2.3光源位置类型 51
2.2.3.1位图 51
2.2.3.2格子平面（创建新的与编辑/查看复杂光源对话框） 54
2.2.3.3六角形平面 55
2.2.3.4 字符串光源 56
2.2.3.5光源文件的输入 58
2.2.3.6随机平面 60
2.2.3.6随机字符串 60
2.2.3.7随机表面 62
2.2.3.8随机体积 63
2.2.3.9 用户定义的光线 65
2.2.4方向类型 68
2.2.4.1像散焦距 68
2.2.4.2像散高斯光束 69
2.2.4.3焦点到/来自一点 70
2.2.4.4 多光源的角(平面波) 72
2.2.4.5 多光源的位置 73
2.2.4.6 角度范围内的随机方向（光线） 74
2.2.4.7 球体内的随机方向（光线） 76
2.2.4.8 单向 77
2.2.4.9 角度空间内构成六角形格子点的方向（光线） 79
2.2.4.10 构成线性格子点的方向（光线） 80
2.2.4.11 激光二极管光束方向 81
2.2.4.12根据强度分布的随机光线方向 82
2.2.4.13 M2激光束方向 83
2.3 光源标签 84
2.3.1 相干 84
2.3.2 位置/坐标 86
2.3.3 偏振 88
2.3.4 位置/方向 89
2.3.5 功率 93
2.3.6 视觉效果 94
2.3.7 波长 96
2.4 切趾光源 99
2.4.1 位置切趾 99
2.4.1.1振幅/相位掩模板 99
2.4.1.1.2 掩膜板大小 101
2.4.1.2 高斯切趾 101
2.4.1.3 R^n距离 104
2.4.1.4均匀 106
2.4.2 方向切趾 108
2.4.2.1 cos^n 或 sin^n 108
2.4.2.2逆朗伯 110
2.4.2.3高斯 113
2.4.2.4郎伯 115
2.4.2.5取样（球形角） 118
2.4.2.6均匀 121
2.4.3光线导入选项 123
2.4.4数字化光源光谱 123
2.4.5部分相干 125
2.4.6 场重新取样 125
2.4.7场重新取样（图形用户界面） 126
第三章 几何体议题与例子 128
3.1 创建新曲面 129
3.1.1 编辑/查看曲面 132
3.1.2 应用孔径，裁剪体与裁剪对象 134
3.1.2.1裁剪体与裁剪对象 137
3.1.2.2裁剪逻辑操作 139
3.1.3 应用位置 149
3.1.4 应用胶合 152
3.1.5 应用光栅 154
3.1.6 曲面类型 161
3.1.7 应用可视化属性 164
3.1.8 应用曲面变形 166
3.1.9 材料 171
3.1.10 散射特性 173
3.1.11 辅助数据 180
3.2 ASAP导入 180
3.3 CAD导入 182
3.4创建几何实体 186
3.4.1 透镜导入 187
3.4.2 透镜及反射镜建立 190
3.4.3 从目录中插入棱镜 193
3.4.4 棱镜 196
3.4.5 元件基元 200
3.4.6 布尔运算 207
3.5 新自定义元件 211
3.6 元件与自定义元件的比较 215
3.7 方向余弦 216
3.8 IGES对象类型标号和标题 217
第四章 曲线与基于曲线的曲面 225
4.1 曲线 226
4.2 曲面类型 234
4.3 复杂曲面孔径：孔径曲线集合 239
4.4 曲线可视化 256
第五章 分析面及其实例 257
5.1 创建分析平面 258
5.2 光线选择标准 267
5.3 粘附分析平面 271
5.4 探测器实体 274
5.5 分析面尺寸 279
第六章 材料设定与定义 280
6.1 材料定义 281
6.2 材料类型 284
6.3 编辑/创建新取样材料 287
6.4 编辑/创建新模型材料 295
6.5 添加体散射 300
6.5.1 Henyey-Greenstein散射 301
6.5.2 脚本体散射 303
6.6 材料吸收特性 305
6.7 光线追迹胶合层 308
第七章 镀膜 310
7.1 新建镀膜 311
7.2 应用光线控制和镀膜 318
7.3 编辑或创建新的一般取样镀膜 321
7.4 编辑或创建新的薄膜层镀膜 330
7.5 未镀膜（裸露）曲面 338
7.6 编辑或创建新的偏光器/波片镀膜 342
7.7 取样镀膜（波长、R、T） 354
7.8 1/4波单层镀膜 357
7.9 脚本镀膜 358
8.1新建散射属性 360
8.2编辑/创建新散射模型 371
8.2.1散射模型 – ABg 371
8.2.2散射模型 – 平滑黑色涂料 376
8.2.3散射模型 – Harvey-Shack 381
8.2.4散射模型 – 朗伯型 388
8.2.5散射模型 – Mie 393
8.2.6散射模型 – 列表数据 404
8.2.7散射模型 – K-系数 409
8.2.8散射模型 – Phong 413
8.2.9散射模型 – 薄片PSD 419
8.2.10散射模型 – 漫反射二项式 422
8.2.11散射模型 – 漫反射多项式 424
8.2.12散射模型 – 扩展 Harvey Shack 426
8.2.13散射模型 – 脚本散射 426
8.2.14散射模型 – 扩展脚本散射 430
第九章 光线追迹属性 432
9.1 光线追迹控制 433
9.2 默认光线追迹控制 440
9.2.1默认光线追迹控制 – 允许全部 440
9.2.2默认光线追迹控制 – 暂停全部 444
9.2.3默认光线追迹控制 – 反射光谱 448
9.2.4默认光线追迹控制 –透射光谱 452
9.3 高级光线追迹 456
9.4 光线追迹菜单命令 462
第十章 光谱 463
10.1创建光谱命令 464
10.2光谱概述 465
10.2.1黑体 466
10.2.2高斯 468
 

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