摘要 在传统的 Talbot 光刻中,在光敏层中仅使用一个图像。 但是,可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。 在本案例中,按照 I.-H. Lee 等人在 VirtualLab Fusion 中使用傅里叶模态方法 (FMM,也称为 RCWA) 对具有一层锥体的相位掩模进行建模。可以检测到不同的 Talbot 图像,在主像平面中会再现柱状图案,而在次要像平面中再现孔图案。 建模任务 structure and material parameters from I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) 系统建模块 特定位置的Talbot图案 特定位置的Talbot图案 不同位置的Talbot图案 不同位置的Talbot图案 沿 Z 轴的强度 VirtualLab Fusion技术 文件信息 更多阅览 - Ultra-Sparse Dielectric Nano-Wire Grid Polarizers - Grating Order Analyzer - Modeling of the Talbot Effect - Configuration of Grating Structures by Using Interfaces - Configuration of Grating Structures by using Special Media