让大家失望了！光刻机工厂？NO!

来源：EETOP

近日来自众多行业外自媒体的消息称，清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并配图称该项目已在雄安新区落地。

对此，中国电子工程设计院有限公司（下称中国电子院）官微9月18日发声，称该项目并非网传的国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）！

HEPS坐落于北京怀柔雁栖湖畔，是国家“十三五”重大科技基础设施。它是我国第一台高能量同步辐射光源，也是世界上亮度最高的，第四代同步辐射光源之一。早在2019年就开始建设，将于2025年底投入使用。

△北京高能同步辐射光源项目实拍图

HEPS是干嘛用的呢？

它的作用是通过加速器，将电子束加速到6GeV。然后注入周长1360米的储存环，用接近光速的速度保持运转，电子束在储存环的不同位置，

通过弯转磁铁或者各种插入件时，就会沿着偏转轨道切线的方向释放出稳定、高能量、高亮度的光，也就是同步辐射光。

简单的说HEPS可以看成是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机。它产生的小光束可以穿透物质、深入内部进行立体扫描从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界HEPS，是进行科学实验的大科学装置。并不是网传的光刻机工厂。

中国电子院表示，目前高能同步辐射光源配套工程已全面完工，向产生世界最“亮”的光又更近了一步。

总结

从原理上来看，使用SSMB-EUV技术解决EUV光刻机的光源问题或许有其可行性，但目前最多也应该只处于实验验证阶段。值得注意的是，EUV光刻机的光源只是该设备的一部分，还有许多其他技术问题需要解决。因此，尚未达到自媒体所宣称的已准备在雄安投入生产的程度。更不能用一张移花接木的图片来欺骗大家。

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