- 博客(2)
- 收藏
- 关注
RSS订阅原创 半导体等离子清洗机在晶圆清洗上是如何应用的
随着半导体技术的不断发展，对工艺技术的要求越来越高，尤其是对半导体晶片的表面质量。主要原因是晶片表面的颗粒和金属杂质的污染会严重影响器件的质量和成品率。在目前的集成电路生产中，由于晶片表面的污染，仍有50%以上的材料损失。 在半导体生产过程中，几乎每个工序都需要清洗，晶圆清洗的质量对器件性能有着严重的影响。正是因为晶圆清洗是半导体制造过程中很重要、频繁的步骤，其工艺质量将直接影响器件的良率、性能和可靠性，所以国内外各大公司和研究机构一直在不断研究清洗工艺。等离子清洗作为一种先进的干洗技术，具...
2020-10-09 15:50:55
903
原创 等离子清洗机臭味是什么造成的
等离子清洗机臭味是什么造成的： 答案是臭氧在起作用。 等离子体放电过程中产生臭氧的基本原理是，含氧气体在放电反应器中形成的低温等离子体气中将氧分子分解成氧原子，然后通过三体碰撞反应形成臭氧分子，同时也发生臭氧分解反应。 臭氧，化学分子式为O3，又名三原子氧和超氧物，因其腥味而得名，常温下可自行还原为氧气。与氧气相比，易溶于水，容易分解。臭氧是由氧分子携带的一个氧原子组成的，这决定了它只是处于暂时的储存状态。携带的氧原子被氧化用完，剩下的结合成氧气进入稳定状态，所以臭氧没有二次污染
2020-10-08 16:18:50
682
空空如也
空空如也
TA创建的收藏夹 TA关注的收藏夹
TA关注的人