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集成电路光刻工艺
文章平均质量分 89
hieason
这个作者很懒,什么都没留下…
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《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程分享之二:浸没式光刻工艺缺陷种类、特征及自识别方法
中国科学院大学(以下简称国科大)微电子学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院,国科大微电子学院开设的《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程是国内少有的研究讨论光刻技术的研究生课程,而开设课程的韦亚一研究员及其团队具有多年的学术界及工业界的光刻技术经验积累,并出版有多本专著,其中《计算光刻与版图优化》一书更是列入中国科学院大学研究生教学辅导书系列。本号获授权将陆续介绍《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程中学生的一些专题调研结果,以及《计算光刻与版图优化》书籍相关内容,未经许可,禁止转载。..原创 2021-10-14 11:58:08 · 872 阅读 · 0 评论 -
《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程分享之一:典型显微系统的光学成像原理
国科大《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程分享之一:典型显微系统的光学成像原理中国科学院大学(以下简称国科大)微电子学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院,国科大微电子学院开设的《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程是国内少有的研究讨论光刻技术的研究生课程,而开设课程的韦亚一研究员及其团队具有多年的学术界及工业界的光刻技术经验积累,并出版有多本专著,其中《计算光刻与版图优化》一书更是列入中国科学院大学研究生教学辅导书系列。本号获授权将陆续介绍《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程中学原创 2021-09-17 11:27:11 · 834 阅读 · 0 评论