预计到2030年，全球半导体制造用超纯水市场的规模将达到27亿美元

超纯水是通过去除饮用水、河水或工艺水中的杂质而生产的，这些水除了氢离子和氢氧化物之外几乎不含任何杂质，以满足高质量标准，包括 >18.2MΩ-cm (18.2 Mohm) 电阻率和其他细至零件的参数 万亿分之一，例如选择性污染物萃取 (SCE) 和 RO Infinity (ROI)，与补充、初级和精处理阶段的电去离子 (EDI) 相结合，以可靠地生产超纯水。

超纯水广泛应用于半导体设备生产中的所有湿加工操作，包括晶圆清洗、蚀刻或抛光。 更先进的技术使用超纯水进行浸没式光刻。 因此，超纯水的纯度对于半导体制造工艺至关重要，因为它直接与硅片接触。 有机物 (TOC)、颗粒物、细菌、金属和阴离子是影响产品产量的其他主要杂质。 超纯水主要用于硅片和半导体材料的清洗、电镀液的配制、冷却设备、硅片的氧化等。

根据QYResearch的调研报告，预计到2030年，全球半导体制造用超纯水市场的规模将达到27亿美元，未来几年的年复合增长率（CAGR）为7.9%。这一增长趋势表明，随着半导体产业的持续发展，对高纯度水的需求也在相应增加。

1. 市场驱动因素：

- 半导体行业增长：全球半导体行业的扩张是推动超纯水需求增长的主要因素。随着智能设备、云计算、大数据和人工智能等领域的发展，对高性能半导体的需求不断上升。

- 技术进步：半导体制造技术的不断进步，如更小尺寸芯片的生产，对水质的要求越来越高，因此需要更高纯度的超纯水。

- 政策支持：许多国家对半导体产业给予政策支持，包括资金投入、税收优惠等，这也间接推动了上游材料，包括超纯水市场的发展。

2. 主要竞争者：

- 全球范围内，半导体制造用超纯水的主要生产商包括栗田工业、奥加诺、野村、SKion Water等。这些企业在技术研发、产品质量和服务上具有竞争力。

- 2023年，全球前五大厂商占有大约91.0%的市场份额，显示出该行业高度集中的特点。

3. 潜在挑战：

- 成本压力：随着市场竞争的加剧，成本控制成为企业面临的主要挑战之一。如何在保证水质的同时降低生产成本，是企业需要考虑的问题。

- 技术更新换代：随着技术的发展，生产超纯水的技术也需要不断更新。企业需要投入研发资源以保持技术领先。

- 环境法规：环保法规的变化可能会对超纯水的生产和使用提出新的要求，企业需要适应这些变化以保持合规。

综上所述，全球半导体制造用超纯水市场前景广阔，但同时也面临着成本和技术的挑战。企业在享受市场增长红利的同时，也需要关注行业变化，不断创新和提高生产效率，以应对潜在的市场风险。