13、X射线聚焦与光学：原理、应用与挑战

X射线聚焦与光学：原理、应用与挑战

1. 引言

X射线聚焦与光学在现代科学研究和技术应用中扮演着至关重要的角色。从纳米级别的成像到材料结构分析，X射线技术的发展为我们揭示了微观世界的奥秘。本文将深入探讨X射线聚焦和光学的相关原理、应用以及面临的挑战。

2. 相干性传播与滤波

2.1 相干性度量

相干性是X射线光学中的一个关键概念，其度量公式为：
[j_{1,2} := \frac{\langle u_1^ u_2 \rangle}{\sqrt{\langle u_1^ u_1 \rangle \langle u_2^ u_2 \rangle}} = \frac{\langle u_1^ u_2 \rangle}{\sqrt{I_1 I_2}}]
其中，(u_1) 和 (u_2) 是复振幅，(I_1) 和 (I_2) 是相应的强度。这个公式用于描述两个X射线场之间的相干程度。

2.2 部分相干X射线的传播

利用随机模型，可以将部分相干X射线的强度和相干度通过光学系统进行传播。以X射线波导中的模式传播为例，波导可以作为相干滤波器。图3.27a展示了在X射线光子能量 (E = 7.9) keV时，聚焦区域的模拟强度分布 (I (x, y) = J((x, y), (x, y)))，以及水平聚焦镜（HFM）的几何参数。绿色曲线表示沿光轴的相干度等值线 (| j(d, z)| = | j(x = 0, z, x = d, z)|)。可以看出，只有强度分布的中心部分是相干的。在焦平面上，空间相干度在分离距离大于预测的相干长度 (\xi)（74nm）时降至0.