TD处理内容整理
- TD处理简介
- 影响TD处理材料选择的因素
- 1、含碳量的影响
- 2、温度和基体硬度的影响
- TD与PVD、CVD的区别

TD处理简介
TD处理技术(Toyota Diffusion Coating Process or Thermal Diffusion)中文全称“热反应扩散沉积”,是20世纪60年代由日本丰田中央研究所开发的一种技术。它的基本原理是将工件放置在含有扩散元素的硼砂浴中,从而在工件表面形成碳化钒(V)、碳化铌(Nb)、碳化铬(Cr)、碳化钛(Ti)等化合物的覆层。TD处理形成的碳化物覆层具有极高的硬度、耐磨性和耐蚀性,能够显著提高模具和机械零件的使用寿命。
影响TD处理材料选择的因素
1、含碳量的影响
TD处理本质上是通过金属材料本身含有的C元素与V、Nb、Cr、Ti等金属元素反应,生成碳化物硬化层。硬化层厚度一般控制在
8
μ
m
8\mu m
8μm~
12
μ
m
12\mu m
12μm之间,在使用过程中碳化层过厚容易剥落,过薄起不到硬化作用。
因此进行TD处理的材料必须含有一定程度的碳元素,一般碳含量需要在
0.3
%
0.3\%
0.3%以上。
2、温度和基体硬度的影响
由于TD处理的温度在
90
0
∘
C
900^\circ C
900∘C~
103
0
∘
C
1030^\circ C
1030∘C,部分材料在这个区间会发生退火,金属基体的硬度降低,需要重新进行淬火和回火。
因为碳化层的硬度非常高,可达到
2500
2500
2500~
3600
H
V
3600HV
3600HV,如果基体硬度不足,可能会出现由于基体支撑力不足,硬化层与基体分层脱落的现象。对于基体硬度,通常控制在
58
58
58~
62
H
R
C
62HRC
62HRC。常用材料有:Cr12MoV、DC53、AB88等。
TD与PVD、CVD的区别
TD处理时生成碳化物的碳原子来源与金属基体,PVD、CVD是的碳原子来源与外界的碳氢化合物,因此TD可以获得比PVD和CVD更好的结合力。