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原创 layout基本缩写

一:验证缩写1:DRC—design rule check (设计规则验证)2:lVS—layout versus schematic(电气连接验证)3:ERC— Electrical rule check(电气规则验证)二:文件缩写1:TLR—Topological layout rules(拓扑布局规则)剖面图规则2:MTT:Mask tooling table(掩膜版生成工具)mask计算方法3:EDR—Electrical design rule (电气设计规则)...

2022-01-19 10:43:48 893 1

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2022-01-14

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