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转载 60倍的性能提升?恺侠KumoScale软件比较传统Ceph软件

恺侠Kioxia近日宣布,在最近的基准性能测试中,其基于NVMe-oF技术的KumoScale存储软件与Ceph软件相比能够提高性能近60倍。 测试突出了该软件的原始性能,并展示了该性能水平可以为数据中心用户带来的经济利益。 在包含NVMe-oF规范和TCP / IP传输的网络环境中进行的测试表明,KumoScale软件的读取性能比Ceph快12倍,读取延迟减少了60%。在类似的负载下,在相同的测试条件下,写入性能比Ceph快60倍,而延迟减少了98%。 基准测试结果摘要: 测试环境:测试环境利

2020-10-19 19:40:37 211

Netbackup备份多节点HANA备份实施.zip

完整的veritas netbackup备份软件安装实施指南,介绍XX系统备份SAP HANA备份实施方案的详细步骤,图文并茂。

2019-12-29

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半导体制程培训CMP和蚀刻讲解了半导体制造工艺流程——刻蚀。化学机械平坦化 (Chemical-Mechanical Planarization, CMP),又称化学机械研磨(Chemical-Mechanical Polishing),是半导体器件制造工艺中的一种技术,使用化学腐蚀及机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平坦化处理。

2019-12-29

半导体世界之光刻胶的分类与效果全解.zip

半导体世界之光刻胶的分类与效果全解,该资料以ppt形式详细介绍了半导体行业中关键一环光刻胶的行业情况,光刻胶的分类与实现的工艺效果。

2019-12-29

《HCIE-Storage实战宝典》第一期.zip

华为存储认证考试实战宝典,华为HCIE storage考试技巧、题库等资料汇集,非常经典的hcie storage考试宝典,推荐文档。

2019-12-29

半导体蚀刻技术.zip

半导体蚀刻技术学习资料,新手了解半导体蚀刻工艺、材料、制程的ppt学习资料,值得推荐的好文档,介绍蚀刻、光刻原理等。

2019-12-29

信息系统安全等级保护测评过程指南.doc

word版可编辑:信息安全技术 信息系统安全等级保护测评过程指南GBT28449-2012,等保相关标准文件之一,非常推荐。

2019-12-29

13.华为存储双活解决方案技术白皮书V3.1.zip

华为存储双活解决方案技术白皮书,对学习存储架构和双活架构的朋友很有实用价值!

2019-10-12

4信息系统安全等级保护测评过程及方法(v3.0).pdf

信息系统安全等级保护测评过程及方法分享给大家,关注等保,为等保服务。

2019-08-17

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