x射线直接投影成像的条件_X射线技术测定材料缺陷的技术进展

X射线技术测定材料缺陷的技术进展

01

  缺陷及其分类^[1]

理想晶体中，原子或离子的排列具有严格的周期性，表现为晶体的平移不变性和长程有序性。然而，实际存在的晶体都是不完美的。实际晶体中可能含有结构上的缺陷，即尺寸上有限，具有边界或表面，或多或少偏离理想的周期特性，这种偏离称为晶体的缺陷或不完整性。

按晶体缺陷类型，有多种分类方式，如按几何形态分类、按缺陷来源分类、按热力学分类等等。其中按几何形态即按维数的分类最为常见。可分为零维的点缺陷、一维的线缺陷、二维的面缺陷和三维的体缺陷。

1.1 点缺陷

点缺陷是三维空间中各个方向上的尺度都远小于晶体或晶粒尺寸的缺陷，是原子尺度的缺陷。主要有：①空位②填隙③反位或错位，指化合物晶体中，一种类型的原子或离子占据正常情况下另一种原子或离子的位置。这类缺陷如肖特基缺陷、弗伦克尔缺陷。

由于其缺陷数目较小，直接观测的手段主要有扫描隧道显微镜、原子力显微镜和高分辨透射电子显微镜等。

1.2 线缺陷

线缺陷为晶体中沿某一条线附近的原子排列偏离理想晶体点阵结构构成的一维尺度上的结构缺陷。其在沿线方向上的尺寸可以与晶体或晶粒的线度相比拟，而在其他方向上的尺度远小于晶体或晶粒的线度。主要为位错，包括螺旋位错和刃型位错。

主要观测方法为晶体生长蜷线、侵蚀法、缀饰法、X射线衍射形貌术和电子显微镜等。

1.3 面缺陷

面缺陷是晶体内部偏离周期性点阵结构的二维缺陷，是晶体平移对称性的终止面或间断面。在共面的各个方向上，面缺陷的尺寸可与晶体或晶粒的线度相比拟，而在穿过该共面方向上的尺寸则远小于晶体或晶粒的线度。其包括表面、界面、相界、晶界、亚晶界、孪晶界、堆垛层错等等。

主要观测手段有偏振光学显微镜、X射线衍射形貌术和高分辨透射电子显微镜等。

1.4 体缺陷

体缺陷是在三维方向上相对尺寸都较大的缺陷，它在任意方向上的尺寸都可以与晶体或晶粒的线度相比拟。其包括固体中的第二相区(沉淀相)、空洞(气泡、气孔)、有序-无序区、亚结构(镶嵌结构)等。

02

  X射线技术在缺陷表征中的应用

有别于直接观测的手段，如光学显微镜、扫描电镜、透射电镜等等，X射线技术表征材料缺陷多为间接表征。如点缺陷由于数目小，一般不能用常规的结构测试方法进行研究。但缺陷的存在会改变材料的物理或化学性质，可以进行间接测量。

具体如①填隙或置换会导致晶格畸变，通过精确测量晶格常数，可判断固溶程度②晶格畸变还可能由残余应力引起③位错密度可能导致微观应变的产生④面缺陷如表面粗糙度可通过X射线反射术测定⑤体缺陷如组织孔洞、裂纹等可用X射线形貌术测定⑥孪晶、织构也可通过特殊测量方式进行间接测定。

2.1 固溶程度

如固溶体也属于晶体缺陷的一种，通过测试物相的晶格畸变，可以反推其固溶程度。如文献^[2]利用科恩最小二乘法进行晶格常数的精确计算；由于CaO(222)晶面的衍射峰位置发生改变，判断CeO₂进入到CaO的晶格内形成了固溶体，从而改变CaO的晶胞参数(图1)。

图1

陈泉水等^[3]在判定CaO与ZrO₂是形成氧离子空位型固溶体还是钙离子填隙型固溶体时，利用