衍射极限

(一)衍射极限概念

衍射极限(diffraction limit)是指一个理想物点经光学系统成像,由于衍射的限制,不可能得到理想像点,而是得到一个夫琅禾费衍射像。因为一般光学系统的口径都是圆形,夫朗和费衍射像就是所谓的艾里斑。这样每个物点的像就是一个弥散斑,两个弥散斑靠近后就不好区分,这样就限制了系统的分辨率,这个斑越大,分辨率越低。

衍射极限限制了系统的分辨率。对于一个系统来讲,其衍射极限是某一个定值,是由于光的衍射造成的物理光学上的限制,跟成像系统的像差没有关系,无像差系统其衍射极限依然存在。

描述衍射极限的公式是:

其中,是角分辨率,是波长,是光圈直径。当很小时,约等于,约等于其中d是最小分辨尺寸,f是焦距。

可以推导出:

衍射极限的限制本质上来源于量子力学中的测不准关系限制。对于给定频率的光子,当它在某个方向上的动量范围给定时,它的分辨率也就定了。

如下图1所示为成像艾里斑图形:

图1 艾里斑图形(三维强度值和和平面图像)

 

 一般当一个艾里斑的中心和另一个艾里斑的边缘暗环刚好重合时,认为两个像斑刚好能够分辨(瑞利判据)。

这一现象用傅立叶分析理论可解释为:携带物体信息的入射光波的傅立叶分量中,较大的横向分量对应着高频成分,代表着物体的细节部分;但含高频横向分量的光波因满足

,(kx、ky 为波矢量K在x和y方向分量,ω为光波角频率、c为光速,传播方向为z轴)

而成为倏逝波,倏逝波在传播过程中因振幅呈指数衰减而无法到达像面,不能参与成像,造成物体细节部分的丢失,因而普通透镜的成像总是有缺陷的。

【倏逝波】成像中的倏逝波与衍射极限 - ostartech - 博客园 https://www.cnblogs.com/wxl845235800/p/9397863.html

 

(二)超越衍射极限

 

研究发现,利用超级透镜可以实现超衍射极限成像。

超级透镜的特点在于能够让倏逝波到达成像面参与成像,

在这一过程中,由贵重金属(如Au,Ag 等)制成的超透镜的表面等离子体极化起到了关键作用。

围绕着倏逝波的放大或恢复问题,人们发展了几种不同的超级透镜。

 

 

2 Pendry的完美透镜

 

Pendry的完美透镜:这种近场透镜的特点是可以让行波正常通过,而让倏逝波在超透镜中传播时得到增强,但出透镜之后又和原来一样衰减,因此只能在近场成像。

从图2中可以看出,倏逝波通过超透镜得到增强,但是它一旦传播出透镜又会很快衰减,因此这种超透镜在很多应用中受限。

 

图3 “PMMA-Ag-光刻胶”的混合集成

 

人们研究发现,倏逝波在通过银平板后,在一定厚度范围内振幅以指数增强。

2005年,加州大学伯克利分校的科学家用“PMMA-Ag-光刻胶”的混合集成进行了超透镜原理验证实验,

银膜超透镜通过表面等离子体的激发显著的改善了近场成像的清晰度,实验结果证明其分辨率高达λ/6,可以使60nm的细节清晰成像。

 

 

 

 

【转载自】

衍射极限1.13_word文档在线阅读与下载_文档网 https://m.wendangwang.com/doc/2b39cf7ea3e58719c7dca37a/6

衍射极限1.13 - 豆丁网 http://www.docin.com/p-1569698081.html

光学衍射极限的突破_word文档在线阅读与下载_文档网 https://m.wendangwang.com/doc/8fc86f554f2f00ff5c699992

Ernst Abbe 据何认为衍射极限是200纳米? - 知乎 https://www.zhihu.com/question/30159989

突破光学衍射极限.pptx https://max.book118.com/html/2016/0606/45003530.shtm

 

衍射极限1.22的来源:

https://zhidao.baidu.com/question/167740773.html?qbl=relate_question_6&word=%D1%DC%C9%E4%BC%AB%CF%DE%B9%AB%CA%BD

 

转载于:https://www.cnblogs.com/wxl845235800/p/9380900.html

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衍射极限附近的光刻工艺是一种在光学技术领域中非常重要的工艺方法。光刻工艺是指利用光学原理和技术,通过光源、掩模和光学透镜等装置对物体进行光照,然后通过一系列的光学变换将物体的形状、尺寸等信息转化为可见图像或模式的过程。而衍射极限附近的光刻工艺则是指在光刻过程中,通过精细调控的方法接近和达到衍射极限,从而实现更高分辨率、更精细图案的制作。 在传统的光刻工艺中,由于光的波长限制和光学透镜的特性,制作出的图案分辨率有一定的上限。然而,随着微电子技术和纳米技术的发展,对于更小、更精细的图案需求不断增加。衍射极限附近的光刻工艺应运而生,其通过改变光源、掩模和光学透镜等元件的参数,使得入射光在衍射极限附近发生更加复杂的波动和干涉现象,从而使得制作出的图案的特征尺寸能够逼近或超越传统光刻工艺的分辨率上限。 实现衍射极限附近的光刻工艺需要的条件有很多,例如使用更短波长的光源、更高精度的掩模制作技术、更高质量的光学透镜等。同时,衍射极限附近的光刻工艺也要求对光刻机的控制系统进行更精细的调整和优化。这些技术的发展和应用,使得纳米级别的图案制作成为可能,为微电子、光电子、传感器等领域带来了更加广阔的应用前景。 总的来说,衍射极限附近的光刻工艺在微电子技术和纳米技术领域具有重要意义,它的应用将推动科学技术的进步和发展。
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