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X射线相衬成像系统与成像方法

【技术领域】

[0001] 本发明涉及X射线光栅成像技术，特别涉及基于分布式X射线源的X射线相衬成 像系统与成像方法。

【背景技术】

[0002] 在现有技术例如CT扫描设备中，利用X射线对物体进行扫描成像得到了广泛应 用。传统的X射线扫描成像一般利用被测材料对X射线的衰减特性来以非破坏性方式检查 物体的内部结构。若物体内部的各部分结构组成的密度差异明显，则传统的X射线成像技 术的效果尤为显著。但是，对于轻元素构成的物质，它们对X射线来说是弱吸收物质，所以， 用传统的X射线成像技术几乎看不到它们内部的具体结构。即使用其它辅助的手段，例如， 给生物组织打上造影剂也很难得到清晰的图像，这造成了很多的缺憾。在上世纪九十年代， 出现了 X射线相衬成像技术。相衬成像是通过捕捉X射线的相移信息来观察物体内部的电 子密度变化，从而揭示物体的内部结构。开始时，出现的相衬成像方法一般通过利用相干或 者部分相干的X射线的干涉或衍射现象来增强辐射图像的低对比度分辨率。在此基础上， 在公开号为"CN101532969A"、名称为"X射线光栅相衬成像系统及方法"(专利文献1)以及[0003] 另外，在X射线成像的技术发展过程中，也出现了暗场成像的技术。暗场成像是利 用非直射光例如散射光、衍射光、折射光和荧光等对物质材料进行成像的技术，通过物质对 X射线散射能力的差异来对物质内部结构进行成像。对于暗场成像，由于硬X射线独特的光 学性质，所需的光学元件制作非常困难，所以，硬X射线的暗场成像一直难以较好地实现。 然而，硬X射线的暗场成像技术在对物质内部微细结构分辨和探测能力上相对于明场成像 和相衬成像具有独到的优势。由于硬X射线的散射在微米量级或甚至纳米量级尺度，因而 硬X射线暗场