半导体设备英文缩写_晶圆制造主要设备一览【涨知识】

本文介绍了晶圆制造的主要步骤和设备,包括氧化炉、沉积设备(如PECVD、LPCVD)、光刻机等,并探讨了这些设备在半导体制造中的重要性和市场情况。全球半导体设备市场由ASML、应用材料和Lam Research等领先企业主导,中国半导体设备企业虽有增长,但在技术上仍有较大差距。
摘要由CSDN通过智能技术生成

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一块芯片的诞生需经历重重考验,从设计到制造再到封装测试,每一关都需用到大量的设备和材料。而在半导体加工的过程中,集成电路制造更是半导体产品加工工序最多,工艺最为密集的环节,因此本文将以晶圆制造为例,说明前道过程中所需要的设备,并阐述其市场情况。

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晶圆制造过程及应用设备

芯片需要经过设计、制造(包括硅片制造以及晶圆制造)、封装测试才能最终落到客户手中。

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芯片制造流程图

从图中的集成电路制造厂板块我们可以看到,晶圆制造过程中有几大重要的步骤:氧化、沉积、光刻、刻蚀、离子注入/扩散等。这几个主要步骤都需要若干种半导体设备,满足不同的需要。

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