框架下载_【深度报告】光刻机行业研究框架（附下载）

最新推荐文章于 2022-08-16 20:37:16 发布

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报告荐读DISCOVERY ?

来源 | 方正证券

重中之重，前道设备居首位。

光刻机作为前道工艺七大设备之首(光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备)，价值含量极大，在制造设备投资额中单项占比高达23%，技术要求极高，涉及精密光学、精密运动、高精度环境控制等多项先进技术。光刻机是人类文明的智慧结晶，被誉为半导体工业皇冠上的明珠。

点击下载，光刻机行业研究框架完整版pdf

冲云破雾，国产替代迎曙光。

目前全球前道光刻机被ASML、尼康、佳能完全垄断,CR3高达99%。在当前局势下，实现光刻机的国产替代势在必行，具有重大战略意义在02专项光刻机项目中，设定于2020年12月验收193纳米ArF浸没式DUV光刻机，其制程工艺为28纳米。考虑到此项目作为十三五目标，未来具有较大的明确性,结合28nm作为当前关键技术节点的性能和技术优势，我们认为光刻机国产替代将迎来新的曙光，尤其是IC前道制造领域，将初步打破国外巨头完全垄断的局面，实现从0到1的突破。

以下是方正证券陈杭分析师撰写的《光刻机行业研究框架》报告：