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原创 物理气相沉积
物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)是一类通过物理过程实现薄膜沉积的技术,核心特征是不依赖化学反应,仅通过能量转化使材料从。,使加热源温度升高,间接加热待蒸发材料;(通常≥10⁻³Pa)中进行,减少气体分子对粒子的碰撞干扰,确保粒子能定向传输至基体表面,同时避免杂质污染。电子束的动能转化为热能,使靶材快速熔化、蒸发为气态,气态原子/分子在基板表面冷却沉积形成薄膜。通过外部能量(热能、电能、激光能等)作用于固态源材料(靶材),使其原子/分子克服结合力,
2025-08-29 16:00:22
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原创 碳纳米管的原子精度制造——展望
碳纳米管(CNT),尤其是单壁碳纳米管,具有优异的性能,可应用于包括高性能电子器件在内的诸多高端领域。然而,碳纳米管的原子排列决定了其能带结构,这使得原子精度制造成为该材料发展中最重要的课题之一。本文中,作者对碳纳米管原子精度制造的历史、现状进行了个人总结,并概述了从“实验室制备”到“规模化制造”原子精度碳纳米管仍面临的挑战及可能的技术路径。
2025-08-06 19:17:33
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原创 ICRA2024:CoLRIO,用于机器人群体的激光雷达测距-惯性集中状态估计
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2025-02-20 15:48:55
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原创 CVPR2024开源:FoundationPose6D物体姿态估计和跟踪
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2025-01-12 20:40:38
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原创 LIO-SAM代码解析:imuPreintegration.cpp(一)
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2025-01-11 23:19:08
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历年全国电子设计大赛题目 更新至2017 请下我2020 1月份更新那个
2018-08-22
MSP430F5529配置主频函数2.0
2018-08-12
TCS34725.zip
2019-05-11
空空如也
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