合成和稳定性研究:构象锁定的4-(二芳基氨基)芳基和4-(二烷基氨基)苯基取代的第二阶非线性光学聚烯染料...

研究背景

电光极化聚合物用于各种光子学应用中,涉及光的切换或调制。极化过程涉及在聚合物宿主的玻璃转变温度以上使用电场对第二阶非线性光学(NLO)客体染料进行对齐,其中它们溶解或共价连接;对齐一旦聚合物冷却至Tg以下就被“冻结”。对于极化的聚合物,一个性能指标是mb,它是染料偶极矩m和其第一超极化张量的矢量部分b的标量乘积。影响设备效率的另一个因素是材料内的折射率均匀性;在聚合物宿主中稀溶的染料可能与其他聚集并引起散射损耗,或通过不利的静电相互作用降低极化效率。

研究主旨

本文报道了构象锁定的非线性光学染料的合成及其光学、电化学和稳定性的研究。通过将二芳基胺或二烷基芳基胺供体与聚烯桥和二氰甲基受体相结合,得到了一系列高非线性光学活性的化合物。这些染料显示出高热稳定性、良好的光稳定性和可比较的非线性光学性能。研究结果表明,构象锁定的聚烯桥和三芳胺供体的组合可以提高染料的稳定性和非线性光学性能。

研究特点

合成了一系列具有高二阶非线性的染料;这些染料由三芳胺或二烷基芳胺供体通过构象锁定的聚烯桥与二氰甲基受体相连。使用这种类型的桥连,结合三芳胺供体代替二烷基芳胺供体,导致了高热稳定性,而不会对染料的非线性光学性质产生不利影响。

文章出处 合成和稳定性研究:构象锁定的4-(二芳基氨基)芳基和4-(二烷基氨基)苯基取代的第二阶非线性光学聚烯染料

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