- 博客(4)
- 收藏
- 关注
RSS订阅原创 Innovus+ICC2对比7nm工艺的后端实现
在输入数据的准备方面，Innovus优势比较明显，lef+liberty足够简单，不像ICC2需要db+lef/gds生成ndm。优化后的color改变会导致与之相连的VIA出现大量的color spacing，目前没有找到比较好的办法，最好是lef里面没有FIX MASK的设置，如果没有可以通过工具命令重置该cell的mask shift的值。平心而论，两个工具剩下的DRC数量都不多，而且preroute相关的DRC数量较多，base DRC也有不同程度的剩余，都需要增加一些特定的设置才能比较好地收敛。
2023-04-27 21:22:20
3704
1
原创 后端进阶系列：POCV的应用和结果分析
一般在同一个PVT条件下的某个cell，都会有late-rise, late-fall, early-rise, early-fall等四种参数，这四种参数分别应用在setup和hold的rise/fall分析中。有了POCV的文件或者LVF，如何将它们应用在设计中，又怎样开启POCV的分析呢？如果大家手头上正在做使用LVF库的项目，可以对照上面的ocv_sigma*和以下moment-based语法看看是属于哪种LVF库。*****后端转行培训，后端学习资料大家可以私聊我*************
2023-04-15 21:29:34
1193
原创 后端进阶系列：典型Legalization问题分析，让Legalize不再复杂~
根据log中提示的信息我们大致能够了解，在legalize的时候工具通过不断移动cell来尝试获取最合适的位置，如果尝试的次数或者移动的距离超过一定阈值就会报出类似上面的提示，从而告诉我们某些cell的legalization失败了。与上面4)所描述的情形类似，如果cell本身的金属pin很密集，那么它能摆放的位置就比较有限，如果cell的形状特别细长或者是多个row高度的Multi-Height类型，则其legalization会被进一步削弱。一般来说工具认为一个【
2023-04-13 22:16:52
766
1
空空如也
空空如也
TA创建的收藏夹 TA关注的收藏夹
TA关注的人