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本文摘要：文章详细介绍了在Cadence环境下进行ADE_L1设置和PVT仿真的操作流程。ADE_L1设置包括加载状态文件、配置设计变量/分析/输出等步骤；PVT仿真部分则涵盖测试创建、工艺角设置（tt/ff/ss）、温度参数配置、模型文件选择等关键操作。最后说明了仿真运行和结果查看方法，包括数据筛选、并行任务设置以及结果矩阵转置等技巧。全文通过18个具体步骤，为读者提供了完整的PVT仿真操作指南。（149字）
2026-04-07 16:36:47
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原创 virtuoso ADE L仿真（含dc、tran、ac、pz、noise、calculetor）
本文详细介绍了Cadence Virtuoso ADEL仿真流程，包含以下核心内容：1）设计变量设置，包括变量编辑、参数扫描和激励信号添加方法；2）五种仿真分析设置（DC、Transient、AC、PZ、Noise）的具体参数配置步骤；3）输出信号设置与仿真运行注意事项；4）波形图处理技巧，包括显示控制、标记工具使用；5）波形计算器的功能应用。全文系统阐述了从变量设置到结果分析的全流程操作要点，为电路仿真提供了实用指导。
2025-11-05 17:25:17
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原创 virtuoso新建库、新建版图、新建电路图、DRC检测、导出CDL网表和LVS检测、封装器件（附虚拟机安装包）
本文介绍了使用Virtuoso工具进行集成电路设计的基本流程。主要内容包括：1)新建test库并关联TSMC18RF工艺库；2)创建MOS单元版图(layout)和电路图(schematic)；3)进行DRC设计规则检查；4)导出CDL网表并执行LVS验证；5)电路图设计常用快捷键；6)器件封装方法。操作步骤详细描述了各环节的具体实现方法，并提供了虚拟机安装包的获取方式。该流程涵盖了从库创建到最终验证的完整IC设计过程。
2025-10-30 15:16:52
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空空如也
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