[超表面论文快讯-98] Nanophotonics-双光子聚合光刻波长复用超表面全息术-上海理工大学

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• 论文基本信息：

  标题：Dual-wavelength multiplexed metasurface holography based on two-photon polymerization lithography
  作者：
  Lei Zhang（上海理工大学光电信息与计算机工程学院）；
  Hongbo Wang（北京理工大学光电学院）；
  通讯作者 Qiang Jiang（北京理工大学光电学院）；
  Liangzhi Han（Nanoscribe China Co., Ltd.）；
  通讯作者 Xuedian Zhang（上海理工大学光电信息与计算机工程学院）；
  Songlin Zhuang（上海理工大学光电信息与计算机工程学院）

  发表时间：2025年3月10日在线发表（2024年12月2日投稿，2025年2月16日接收）
  发表期刊：Nanophotonics（JCR-Q1，IF=6.5）

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    解决的问题
    随着光学器件向高集成度与多功能化发展，超表面全息在可见光波段的应用面临双重挑战：其一，传统电子束光刻（EBL）工艺因流程复杂且难以加工不同高度的超原子，限制了超表面结构的多样化设计；其二，现有全息复用技术（如空间复用、偏振复用）需牺牲空间分辨率或能量效率，而基于单一超原子的多波长全息设计因缺乏有效的相位调控方法，难以实现高保真、无串扰的彩色重建。尤其在双波长场景下，现有方法无法通过单一结构同时满足传播相位与几何相位的色散互补需求，导致多波长协同调控存在显著研究空白。

    提出的方法
    本研究提出一种基于双光子聚合（TPP）光刻的双波长超表面全息设计方法。通过融合传播相位（依赖纳米柱几何参数的动态相位）与几何相位（Pancharatnam-Berry相位），在单一超原子中实现双波长相位独立调控；引入旋转角度自由度，将传统m²级相位对需求降至m级，简化多波长编码复杂度。利用TPP技术直接固化光刻胶材料，制备高深宽比（16:1）纳米柱阵列，突破EBL工艺对复杂三维结构的加工限制。

    实现的效果
    实验验证双波长（532 nm和633 nm）全息重建图像与理论预测高度一致，无颜色串扰，且衍射效率分别达11%和14%。通过TPP技术成功制备最小线宽250 nm、面积700×700像素的超表面，首次在可见光波段实现非空间复用的双波长彩色全息显示。优化工艺参数后，纳米柱结构无坍塌，尺寸误差控制在±10 nm以内，重建图像噪声显著低于传统误差模型预测值。

    创新点分析
    本研究属于工艺与设计方法协同创新：工艺层面，首次将TPP光刻应用于可见光超表面全息器件制造，通过高精度三维打印简化工艺流程；设计层面，提出传播-几何相位混合调控机制，通过旋转自由度降低多波长编码复杂度。相较于算法或理论创新，该工作通过工艺与设计协同优化，为多功能超表面器件的低成本制备提供了新范式。

论文重要图文：

摘要：双光子聚合（TPP）光刻技术可高精度加工三维微纳结构，在微光学领域具有广泛应用。超表面能够在亚波长尺度灵活调控电磁场，实现多维复用全息、消色差成像等功能。传统超构器件通常采用基于电子束光刻（EBL）的工艺制备，存在工艺复杂且难以制备含不同高度超原子的器件等问题。本研究设计了一种无需空间复用的彩色双波长超表面全息器件，通过结合传播相位与几何相位，在相同偏振态下实现双波长相位响应，并采用TPP三维激光直写技术制备超表面。实验重建图像与理论预测高度吻合，不仅验证了该三维打印技术在可见光波段超表面样品制备中的可行性，更为全息显示、光学加密、防伪等领域提供了潜在应用。

结论：总结而言，本研究利用三维TPP技术制备彩色超表面全息器件。我们提出了基于传播相位与几何相位结合的双波长复用彩色超表面全息设计原理，在无需空间复用条件下保留超表面全息的高分辨特性。通过引入旋转角度参数，可降低超原子数量的设计要求，从而简化多功能超表面器件的设计难度。通过优化TPP三维打印技术中的激光功率、扫描速度与填充间距，实现了最小线宽250 nm、深宽比16:1的超原子制备。样品实验重建表明，所设计超表面全息器件在532 nm与633 nm双波长激光同步照射下可呈现明亮清晰的彩色全息图像，与理论预期高度一致。本工作不仅证明了三维TPP打印技术在可见光波段超表面样品制备中的可行性，所提出的超表面设计方法更为全息显示、光学加密、防伪等领域提供了应用潜力。通过三维TPP技术，还可加工具有不同高度或连续自由形态的复杂超原子，实现高性能消色差透镜、手性超表面、BIC超表面与大容量超表面全息等多功能超表面器件，从而推动超表面技术的实际应用。

图1：三维打印超表面彩色全息显示原理示意图

图2：超原子单元及其PCE/相位响应。(a) 超原子结构示意图。© IP-Dip材料折射率。(b)和(d) λ=532 nm与λ=633 nm波长下交叉圆偏振光的PCE与动态相位响应。长度L变化范围600-890 nm，宽度W变化范围250-510 nm。四颗红星标注本工作使用的S1、S2、S3、S4超原子单元。

图3：选定超原子单元实现双波长相位调控。(a) 通过旋转选定超原子可编码的16组双波长相位对。(b) 选定超原子单元S1-S4的几何参数及其对应双波长的PCE与相位值。

图4：全息相位分布与双波长彩色图像仿真重建结果。(a) 532 nm与633 nm对应两套全息相位分布。(b) 目标图像与不同波长下仿真重建效果。Scale bars: 35 μm。

图5：样品加工流程及SEM显微图像。(a) 三维TPP打印加工过程。(b) 样品SEM显微照片。

图6：实验结果。(a) 彩色超表面全息实验装置。(b) 目标图像与实验重建效果。Scale bars: 1 mm。© 局部放大图像。(d) 未引入/引入加工误差的仿真重建对比。

参考文献：

• Zhang, Lei, Wang, Hongbo, Jiang, Qiang, Han, Liangzhi, Zhang, Xuedian and Zhuang, Songlin. “Dual-wavelength multiplexed metasurface holography based on two-photon polymerization lithography” Nanophotonics, 2025.
  DOI：https://doi.org/10.1515/nanoph-2024-0705

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