布局前的准备:
1查看捕捉点设置是否正确.08工艺为0.1,06工艺为0.05,05工艺为0.025.
2Cell名称不能以数字开头.否则无法做DRACULA检查.
3布局前考虑好出PIN的方向和位置
4布局前分析电路,完成同一功能的MOS管画在一起
5对两层金属走向预先订好。一个图中栅的走向尽量一致,不要有横有竖。
布局时注意:
6更改原理图后一定记得check and save
7完成每个cell后要归原点
8DEVICE的个数是否和原理图一至;各DEVICE的尺寸是否和原理图一至。一般在拿到原理图之后,会对布局有大概的规划,先画DEVICE,再连线。画DEVICE后从EXTRACTED中看参数检验对错。
9如果一个cell调用其它cell,被调用的cell的vssx,vddx,vssb,vddb如果没有和外层cell连起来,要打上PIN,否则通不过diva检查.最好在布局低层cell时就连起来。
10尽量用最上层金属接出PIN。
11 接出去的线拉到cell边缘,布局时记得留出走线空间.
12 金属连线不宜过长;
13 电容一般最后画,在空档处拼凑。
14 小尺寸的mos管孔可以少打一点.
15 LABEL标识元件时不要用y0层,GDS文件不认。
16 管子的沟道上不要走线
17 电容上下级板的电压注意要均匀分布;电容的长宽不宜相差过大。可以多个电阻并联.
18 多晶硅不能两端都打孔连接金属。
19 一般打孔最少打两个
20 薄氧化层是否有对应的植入层
21 金属连接孔可以嵌在diffusion的孔中间.
22 两段