半导体工业发展带来废水处理问题，尤其是砷污染。化学沉淀法和吸附法是常用的除砷技术，而离子交换树脂法如Tulsimer®A-62MP展示出高效能，尤其适合处理含有机物的废水。为适应中国半导体工业，废水处理技术需持续优化升级。
随着人类科技的不断进步，半导体工业也得到了突飞猛进的发展，可是，制备合成半导体的主要原料砷、镓、铟等元素，在切割、蚀刻、研磨过程中会随冲洗水排入工业废水中，使产生的废水具有du性。如果这些废水不经处理直接排放到环境中去，就会污染环境，影响人类和动植物的生存环境。
半导体工厂是我国重要的制造业产业，废水处理成为半导体制造企业必须面对的难题。光电半导体行业是指利用半导体材料光电特性制作光电器件，其生产过程中会产生含砷废水。废水中的砷元素更是导致环境污染的主要因素之一。为保障水环境安全，半导体废水中的砷元素需要得到彻底去除。
专家介绍，目前较为有效的半导体废水除砷方法有化学沉淀法、吸附法、离子交换法、氧化法等。其中，化学沉淀法和吸附法是应用较为广泛的方法。化学沉淀法可以利用特定化学试剂并与砷形成不溶于水的沉淀排除废水中的砷元素，而吸附法则利用可选择吸附性吸附树脂材料将废水中的砷元素移除。
虽然半导体废水除砷技术已逐渐成熟，但仍需不断完善。同时，废水除砷技术的应用也需要特别针对我国半导体工业的实际情况进行优化与升级，从而进一步提升其除砷效率和环境安全性。
离子交换树脂法是一种非常具发展潜力的废水治理方法，因其操作简单，整体流程简短，占地面积小，工艺技术成熟等优点，在废水处理中得到广泛应用，并且对不同废水的处理效果均较好，可将废水有效资源化利用。
Tulsimer®A-62 MP具有很强的抵抗有机物污染的能力，因此它可适用于含高浓度有机物和颜色的水质，在工业用水和家庭饮用水方面具有极强的砷酸盐、硝酸盐、溴化物的去除能力。
Tulsimer®A-62MP基本特性
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