Zemax中序列模式与非序列模式的区别

Zemax的序列模式适用于成像和离焦系统设计,光线按预设顺序通过表面,每面仅相交一次。非序列模式适合非成像应用如照明分析,光线可与物体多次相交,无固定顺序。两者在面定义、光线交互及应用领域上有显著区别。

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一、Zemax光学设计超级手册中介绍如下:

在zemax序列模型中,所有光线传播发生在特定局部坐标系中的光学面。在非序列模型中,光学元件都用三维物体来模拟(因为有许多光学元件不能在简单的序列表面中被模拟出来,都需要3D物体模拟),且所有物体放置在一个全局坐标系中。

二、进一步理解:

在Zemax的序列模型中,所有光线传播发生在特定局部坐标系中的光学面。大多数成像系统可以很好地用序列性的光学面描述,就是光线严格按照序列从物面依次到第1面、第2面、第3面等等。按照这种序列性,对于每个光学表面,每根光线只通过一次。序列是以面为单位建模,多用于成像系统
非序列光线追迹是指并没有为被追迹的光线预先定义它必须得到达的表面。光线是否到达某个物面完全由光线方向以及物面的物理位置和特性决定。光线可能入射到任何非序列物体的任何部分,并且可能多次入射到同一物体上,但也可能一次也不入射。非序列多用于照明系统。

三、Zemax光学设计超级手册第六章中介绍

序列模式:主要用来设计成像和离焦系统,面

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