用途：二硒化钨(WSe2)连续薄膜 GaAs砷化镓基底 CVD二维薄膜

【详情描述】

薄膜是一种材料形态，通常指的是在一个方向上相对较薄的层状结构。这种结构的特点是其厚度相对较小，常常在纳米米级或微米级范围内。薄膜可以是单层或多层，具体取决于应用和制备方法。薄膜的制备方法包括物理蒸发、溅射、化学气相沉积（CVD）、溶液法等，具体方法取决于所需的材料和性质。薄膜技术在科学和工程中有很多重要的应用，推动了许多领域的发展。

由薄膜上、下表面反射（或折射）光束相遇而产生的干涉。薄膜通常由厚度很小的透明介质形成。如肥皂泡膜、水面上的油膜、两片玻璃间所夹的空气膜、照相机镜头上所镀的介质膜等。比较简单的簿膜干涉有两种，一种称做等厚干涉，这是由平行光入射到厚度变化均匀、折射率均匀的薄膜上、下表面而形成的干涉条纹。薄膜厚度相同的地方形成同条干涉条纹，故称等厚干涉。

【基本信息】
中文名称：二硒化钨连续薄膜 GaAs砷化镓基底
英文名称：WSe2薄膜 GaAs砷化镓基底
纯度：99.9%
存储：-20℃冷藏、密封、避光a
保存时间：1年
用途：仅用于科研，不能用于人体
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以上资料来自昊然生物小编JMY 2024.1.25.         
以上文中提到的产品仅用于科研，不能用于人体及其他用途。