氮化硅薄膜、Si3N4薄膜

【基本信息】
中文名称：氮化硅薄膜

英文名称：Si3N4

纯度：99.9%

存储：-20℃冷藏、密封、避光

保存时间：1年

用途：仅用于科研，不能用于人体

【详情描述】
Si3N4薄膜是由硅（Si）和氮（N）元素组成的氮化硅薄膜，通常被称为氮化硅。Si3N4薄膜具有良好的电气绝缘性，因此在半导体器件中常用作绝缘层，防止电子元件之间的电流传导。
化学气相沉积法是一种常用的晶体薄膜制备方法，它主要是利用化学反应的原理，在惰性气体或氢气等载气气氛下，使之在晶体生长基板上运输，在合适的条件下沉积晶体。通过这种方法可以得到高质量的晶膜，具有良好的单晶结构和晶格匹配性。

【定制产品】
Ni-Co-Mn-Ti合金薄膜
TiZrV薄膜
四面体非晶碳膜 (ta-C)  
碳化钨-碳薄膜(WC:C)
氮化钛薄膜(TiN)
氮化铬薄膜(CrN)
Ne/Ar掺杂的W薄膜(W-Ar-Ne)
以上资料来自昊然生物小编JMY 2024.1.31.        
以上文中提到的产品仅用于科研，不能用于人体及其他用途。