Cu-Al共掺ZnO薄膜的简单介绍

【基本信息】
中文名称：Cu-Al共掺ZnO薄膜
纯度：99%
保存时间：1年
包装：瓶装/袋装
储藏条件：-20°C 下避光保存
用途：仅用于科研，不能用于人体

【详细信息】

溅射镀膜法是基于溅射现象进行镀膜的技术，在制备薄膜的过程中，利用氩气电离产生的带电粒子对靶材进行轰击，溅射出靶材原子并以一定的能量吸附在基体上从而生长出薄膜。 最初出现的溅射镀膜技术是最简单的直流二极溅射技术，靶材加负电位，基体加正电位，放电空间中的电子与氩原子发生相互碰撞，使氩原子被电离得到氩离子，氩离子沿电场线的方向以极高的速度轰击靶材表面，使靶材表面的中性原子带着一定的能量溅射出来， 溅射出的靶材原子运动转移到基体上，在基体上吸附并生长成薄膜。

【产品】

多晶硅锗薄膜(SiGe)

CIGS薄膜

SmCo薄膜

TbDyFe磁致伸缩薄膜

Cu-Al共掺ZnO薄膜      

以上文中提到的产品仅用于科研，不能用于人体及其他用途。