Ag-TiO2纳米薄膜、SiC-Al薄膜

中文名称：Ag-TiO2纳米薄膜
纯度：99.9%
存储：-20℃冷藏、密封、避光
保存时间：1年
用途：仅用于科研，不能用于人体

薄膜是一种材料形态，通常指的是在一个方向上相对较薄的层状结构。这种结构的特点是其厚度相对较小，常常在纳米米级或微米级范围内。薄膜可以是单层或多层，具体取决于应用和制备方法。薄膜的制备方法包括物理蒸发、溅射、化学气相沉积（CVD）、溶液法等，具体方法取决于所需的材料和性质。薄膜技术在科学和工程中有很多重要的应用，推动了许多领域的发展。

中文名称：SiC-Al薄膜
纯度：99.9%
存储：-20℃冷藏、密封、避光
保存时间：1年
用途：仅用于科研，不能用于人体

磁控溅射技术具有以下优点：

第一，等离子体电阻较低，放电电流高（1A~100A）；

第二，成膜较快，可以达到 1-10nm/s 之间；

第三，沉积时，基体温升缓和；

第四，薄膜均匀性较高。几米范围内，可以将不均匀度控制在几个百分比；

第五，薄膜质量好，致密、结合力好；

第六，薄膜材料选择面广，几乎所有的金属和化合物都可以沉积，且薄膜成分可以在很宽范围内调节。

产品：

Ge单层膜

多晶硅锗薄膜(SiGe)

CIGS薄膜

SmCo薄膜

TbDyFe磁致伸缩薄膜

Cu-Al共掺ZnO薄膜

以上文中提到的产品仅用于科研，不能用于人体及其他用途。