中文名称:Ag-TiO2纳米薄膜
纯度:99.9%
存储:-20℃冷藏、密封、避光
保存时间:1年
用途:仅用于科研,不能用于人体
薄膜是一种材料形态,通常指的是在一个方向上相对较薄的层状结构。这种结构的特点是其厚度相对较小,常常在纳米米级或微米级范围内。薄膜可以是单层或多层,具体取决于应用和制备方法。薄膜的制备方法包括物理蒸发、溅射、化学气相沉积(CVD)、溶液法等,具体方法取决于所需的材料和性质。薄膜技术在科学和工程中有很多重要的应用,推动了许多领域的发展。
中文名称:SiC-Al薄膜
纯度:99.9%
存储:-20℃冷藏、密封、避光
保存时间:1年
用途:仅用于科研,不能用于人体
磁控溅射技术具有以下优点:
第一,等离子体电阻较低,放电电流高(1A~100A);
第二,成膜较快,可以达到 1-10nm/s 之间;
第三,沉积时,基体温升缓和;
第四,薄膜均匀性较高。几米范围内,可以将不均匀度控制在几个百分比;
第五,薄膜质量好,致密、结合力好;
第六,薄膜材料选择面广,几乎所有的金属和化合物都可以沉积,且薄膜成分可以在很宽范围内调节。
产品:
Ge单层膜
多晶硅锗薄膜(SiGe)
CIGS薄膜
SmCo薄膜
TbDyFe磁致伸缩薄膜
Cu-Al共掺ZnO薄膜
以上文中提到的产品仅用于科研,不能用于人体及其他用途。