氧化亚硅介孔原位生长碳纳米管复合材料

该文章介绍了使用CVD方法在氧化亚硅介孔材料上生长碳纳米管的过程,通过调控反应条件实现碳原子聚合,形成有序排列的碳纳米管。研究还探讨了其作为模板及催化活性位点的作用。这些碳纳米管复合材料主要用于科研,非人体用途。

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采用化学气相沉积法(CVD)在氧化亚硅介孔材料表面引入碳源,通过控制反应条件,使碳原子在介孔内部发生聚合和生长,形成碳纳米管。在此过程中,氧化亚硅介孔材料不仅作为模板,还为碳纳米管的生长提供了所需的催化活性位点。

通过扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)观察,发现碳纳米管成功地在氧化亚硅介孔内部生长,呈现出有序的排列结构。

中文名称:氧化亚硅介孔原位生长碳纳米管复合材料

纯度:95+%

存储:-20℃冷藏、密封、避光

保存时间:1年

规格:mg

包装:瓶装/袋装

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以上文中提到的产品仅用于科研,不能用于人体及其他用途。

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