【spie独立出版+检索稳定】2024年第五届绿色能源、环境与可持续发展国际学术会议(GEESD 2024)

2024 5th International Conference on Green Energy, Environment and Sustainable Development (GEESD 2024)

会议通知

2024年第五届绿色能源、环境与可持续发展国际学术会议(GEESD 2024)将于2024年6月28-30日在中国绵阳召开,热烈欢迎全国高等院校、科研机构、政府机关和企事业单位从事绿色能源、环境与可持续发展相关领域的专家学者及技术人员届时出席会议,现将有关事项通知如下:

一、主办单位

智慧储能研究院(西南科技大学)

湖北省众科地质与环境技术服务中心

二、会议主题

绿色能源、环境与可持续发展

三、会议时间和地点

会议时间:2024年6月28-30日

会议地点:中国绵阳

四、会议主题(包括但不限于)

1.绿色能源

清洁能源

能源分析

能源与环境的议题

能源与可持续发展

能源转换与管理

能源资源

绿色能源系统

太阳能/风能/水能

可持续能源技术

2.环境

大气环境

环境分析及方法

环境生物学

环境化学

环境催化与纳米材料

环境健康和毒理学

环境微生物学

环境污染和管理

环境可持续性

废物及水资源管理

3.可持续发展

生态与可持续发展

再生及可持续能源

能源可循环技术

环境与可持续发展技术

绿色建筑与可持续发展

土地可持续发展

城市规划与发展

农业系统的可持续发展

五.投稿注意事项

  1请务必用英文撰写论文(对中文稿件,大会秘书处也提供英文翻译,翻译费350/千字)

  2论文应包含:Abstract (摘要) Keywords (关键词)Instruction (引言)Text (正文)Conclusion(结论) References (参考文献);引言中请解析国内外同类研究的现状及存在的问题。

  3论文排版格式样张请到:2024 5th International Conference on Green Energy, Environment and Sustainable Development下载,请严格按样张排版,排版可有脚注,不可有页眉。

  4投稿时,请将论文(WORD版和PDF版)提交至会议官方投稿网站:登录

  5本次会议采取先投稿、先送审、符合条件者先发送录用通知方式进行。

  6严禁一稿多投;论文作者请保持三位以内。

六.会议出版物

所有会议录用的论文,将由Proceedings of SPIE—The International Society for Optical Engineering (ISSN 0277-786X; eISSN: 1996-756X)出版,并提交ei检索,检索稳定。

往届检索情况请参见附录。

七.重要期限

会议时间:2024.6.28-30

截稿日期:参考官网

录用通知时间:投稿后2

(本次会议采取先投稿、先送审、符合条件者先发送录用通知方式进行)

八.版面费及会议回执

1会议注册费:提交论文作者免收注册费;住宿统一安排,费用自理(特邀嘉宾除外);随行人员注册费为1500/人,可以会议现场交纳以及领取发票。

2论文审稿通过后即通知作者交纳版面费

3会议回执:请务必在2024610日前,填写参会回执发送到会议邮箱:icgeesd@163.com

九.大会秘书处

湖北省众科地质与环境技术服务中心

联系人:陈老师

  话:18327076159(微信)

通讯地址:湖北省武汉市洪山区珞狮路147号(武汉理工大学旁)

附录:

GEESD2020在会后两个半月内EI检索,如下:

GEESD2021在会后六个月EI检索,如下:

GEESD2022在会后四个月EI检索,如下:

GEESD2023在会后四个月EI检索,如下: 

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《Levinson H J. Overlay/Principles of Lithography, SPIE, 2005》是一本关于光刻中overlay(叠加)原理的著作。光刻是一种关键的半导体制造技术,用于制造微芯片中的各种复杂结构。而overlay技术在光刻中起着至关重要的作用。 Overlay在光刻中指的是将不同层次的芯片结构精确地叠加在一起,使得各个层次之间的结构对位精度达到亚微米级。这涉及到光刻机的对位技术,以及对于光学光刻模板、光源和光刻胶特性等的控制和优化。 本书系统地介绍了overlay技术中涉及的原理、方法和技术。书中详细介绍了光刻对位的定义、分类和精度要求,并对光刻机中用于实现对位的抓手装置进行了深入研究。此外,书中还介绍了光刻胶对overlay精度的影响,以及光源对光刻图形质量和对位精度的影响。 作者通过大量的实验和理论分析,深入探讨了overlay技术中的挑战和解决方法。书中提供了对位误差分析和校正的方法,并介绍了一些常见的对位衡量方法和对位改善的技术手段。此外,书中还讨论了一些新兴的overlay技术,如双投影光刻和多重光束干涉光刻。 总之,Levinson所著《Overlay/Principles of Lithography, SPIE, 2005》是一本关于光刻中overlay原理和技术的经典著作。它对于理解和掌握光刻制造技术、提高对位精度以及推动半导体行业的发展具有重要的参考价值。

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