英特尔接收全球第一台High NA EUV光刻机，它背后的原理和黑科技

于 2024-07-29 10:54:47 发布
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一套High NA EUV光刻机的大小等同于一台双层巴士，重量更高达150吨，组装起来比卡车还大，需要被分装在250个单独的板条箱中进行运输。

另外High NA EUV的售价高达3.5亿欧元一台，约合人民币27亿元，它将成为全球三大晶圆制造厂实现2nm以下先进制程大规模量产的必备武器。

2023年12月，Intel已率先拿下了全球首台High NA EUV光刻机，台积电和三星订购High NA EUV预计最快2026年到货。

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EUV光刻机的光学系统仿真是指使用计算机软件对光学系统进行模拟，从而预测光刻机的性能表现。EUV光刻机的光学系统由多个部分组成，其中最重要的部分是反射式凸面镜组和光刻镜。这些部分的参数包括： 1. 光学分辨率：指在一定条件下，光刻机能够分辨的最小特征尺寸。 2. 成像误差：指光刻机在成像过程中出现的误差，例如畸变、球差等。 3. 焦距：指光学系统的焦点位置，也是成像质量的一个重要参数。 4. 波长：指EUV光刻机使用的波长，通常为13.5纳米。 5. 光源亮度：指EUV光刻机使用的光源的强度。 6. 光源的空间及时间稳定性：指EUV光刻机使用的光源的空间和时间稳定性。 7. 光刻镜和凸面镜的精度：指光刻镜和凸面镜表面形状的精度。 以上参数的优化与改进可以帮助提高EUV光刻机的分辨率、成像质量和稳定性，从而提高光刻机的生产效率和制造质量。
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