【SPIE独立出版∣IEEE Fellow等重磅嘉宾】信号处理、通信安全等多主题征稿

最新推荐文章于 2024-05-22 18:02:31 发布
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版权

2022年信号处理与通信安全国际学术会议（ICSPCS）

2022年7月22-24日    中国-大连

主办单位

                                                     大会官网：www.icspcs.net

大会简介

2022年信号处理与通信安全国际学术会议（ICSPCS）为2022年计算机青年科学家国际学术交流大会的分会，将于2022年7月22-24日在中国大连举办。大会诚邀从事相关技术研究的专家、学者和专业技术人员踊跃投稿并参加大会。

 

大会已上线至大连交通大学计算机与通信工程学院学术活动页面！

详情请点击此链接：大连交通大学计算机与通信工程学院 - 关于 2022 年计算机青年科学家国际学术交流大会（YSCCS）的通知

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aeicjoy
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《Levinson H J. Overlay/Principles of Lithography, SPIE, 2005》是一本关于光刻中overlay（叠加）原理的著作。光刻是一种关键的半导体制造技术，用于制造微芯片中的各种复杂结构。而overlay技术在光刻中起着至关重要的作用。 Overlay在光刻中指的是将不同层次的芯片结构精确地叠加在一起，使得各个层次之间的结构对位精度达到亚微米级。这涉及到光刻机的对位技术，以及对于光学光刻模板、光源和光刻胶特性等的控制和优化。 本书系统地介绍了overlay技术中涉及的原理、方法和技术。书中详细介绍了光刻对位的定义、分类和精度要求，并对光刻机中用于实现对位的抓手装置进行了深入研究。此外，书中还介绍了光刻胶对overlay精度的影响，以及光源对光刻图形质量和对位精度的影响。 作者通过大量的实验和理论分析，深入探讨了overlay技术中的挑战和解决方法。书中提供了对位误差分析和校正的方法，并介绍了一些常见的对位衡量方法和对位改善的技术手段。此外，书中还讨论了一些新兴的overlay技术，如双投影光刻和多重光束干涉光刻。 总之，Levinson所著《Overlay/Principles of Lithography, SPIE, 2005》是一本关于光刻中overlay原理和技术的经典著作。它对于理解和掌握光刻制造技术、提高对位精度以及推动半导体行业的发展具有重要的参考价值。

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