《CMOS超大规模集成电路设计（第三版）》参考文献 下载

最新推荐文章于 2024-09-26 15:14:55 发布
最新推荐文章于 2024-09-26 15:14:55 发布
阅读量4.3k 收藏 2
点赞数
版权声明：本文为博主原创文章，遵循 CC 4.0 BY-SA 版权协议，转载请附上原文出处链接和本声明。
本文链接：https://blog.csdn.net/be_flying/article/details/2112623
版权
be_flying
关注
集成电路技术类毕业论文文献有哪些？
weixin_42009785的博客
01-10 2301
本文是为大家整理的集成电路技术主题相关的10篇毕业论文文献，包括5篇期刊论文和5篇学位论文，为集成电路技术选题相关人员撰写毕业论文提供参考。
计算机系统 cmos电路图,CMOS集成电路版图TannerL-Edit设计入门
weixin_30454067的博客
07-17 2373
《CMOS集成电路版图TannerL-Edit设计入门》由会员分享，可在线阅读，更多相关《CMOS集成电路版图TannerL-Edit设计入门(69页珍藏版)》请在人人文库网上搜索。1、nCMOS集成电路版图 TannerL-Edit设计入门 2021年7月15日星期四 CMOS集成电路版图TannerL-Edit设 计入门 主要内容：主要内容： n版图设计概念； n版图设计流程及在IC设计中的位...
CMOS超大规模集成电路设计 第4版
06-21
《CMOS超大规模集成电路设计（第4版）》是本经典教材，该版本反映了近年来集成电路设计领域面貌的迅速变化，突出了延时、功耗、互连和鲁棒性等关键因素的影响。内容涵盖了从系统级到电路级的CMOS VLSI设计方法，介绍了CMOS集成电路的基本原理，设计的基本问题，基本电路和子系统的设计，以及CMOS系统的设计实例（包括一系列当前设计方法和CMOS的特有问题，以及测试、可测性设计和调试等技术）。全书加强了对业界积累的许多宝贵设计经验的介绍。
CMOS超大规模集成电路设计
12-27
CMOS版图设计教材
超大规模集成电路先进光刻理论与应用
最新发布
gitblog_06676的博客
09-26 454
超大规模集成电路先进光刻理论与应用 【下载地址】超大规模集成电路先进光刻理论与应用 超大规模集成电路先进光刻理论与应用 项目地址: https://gitcode.com/Open-source-documentation-tut...
中文版CMOS超大规模集成电路设计第4版.part1
05-28
VLSI学习必备教材之一 Neil H. E. Weste & David Money Harris 编著
CMOS 超大规模集成电路设计（第三版）答案
11-05
CMOS 超大规模集成电路设计 部分答案
硅超大规模集成电路工艺技术——理论、实践与模型(英文版)
09-07
硅超大规模集成电路工艺技术——理论、实践与模型(英文版)
模拟CMOS集成电路设计答案(拉扎维)
11-22
《模拟CMOS集成电路设计》是一本由Behzad Razavi教授撰写的经典教材，该书深入浅出地介绍了模拟集成电路的设计原理与方法，是电子工程专业学生及从业人员的重要参考资料之一。本书不仅覆盖了CMOS工艺的基本概念和...
单片机的c语言应用程序设计答案第六版,单片机C语言应用程序设计马忠梅课后习题答案...
weixin_42511879的博客
05-17 2188
《单片机C语言应用程序设计马忠梅课后习题答案》由会员分享，可在线阅读，更多相关《单片机C语言应用程序设计马忠梅课后习题答案(4页珍藏版)》请在人人文库网上搜索。1、第一章 1、8051 单片机由哪几部分组成？ 8 位中央处理器 CPU、片内振荡电器及其时钟电路， 4 个 8 位并行 I/O 口(其中 P0 和 P2 可 用于外部存储器的扩展) ，2个16位定时器 /计数器， 5个中断源(具有 2个...
联暻半导体(山东)为中国市场提供芯片设计服务.pdf
07-26
联噪半导体(山东)有限公司采取了快速抢市、提升获利、永续经营的三阶段经营策略，目标是成为中国第一大ASIC设计服务公司。其服务内容包括集成电路后端设计服务与设计咨询、ARM CPU整合能力和IP及Turnkey解决方案。...
超大规模集成电路英文版
10-23
超大规模集成电路英文版，主要是讲述场效应管的几本结构以及简单的门电路
CMOS超大规模集成电路设计_集成电路设计_CMOSVLSIDESIGN_
10-02
CMOS超大规模集成电路设计经典书籍，含书签
超大规模集成电路先进光刻理论与应用.pdf
05-21
光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。在集成电路制造中，正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律得以继续。本书覆盖现代光刻技术的重要方面，包括设备、材料、仿真（计算光刻）和工艺。在设备部分，对业界使用的主流设备进行剖析，介绍其原理结构、使用方法、和工艺参数的设置。在材料部分，介绍了包括光刻胶、抗反射涂层、抗水涂层、和使用旋图工艺的硬掩膜等材料的分子结构、使用方法，以及必须达到的性能参数。本书按照仿真技术发展的顺序，系统介绍基于经验的光学邻近效应修正、基于模型的光学邻近效应修正、亚曝光分辨率的辅助图形、光源-掩模版共优化技术和反演光刻技术。如何控制套刻精度是光刻中公认的技术难点，本书有一章专门讨论曝光对准系统和控制套刻精度的方法。另外，本书特别介绍新光刻工艺研究的方法论、光刻工程师的职责，以及如何协调各方资源保证研发进度。
CMOS VLSI DESIGN
02-06
英文版经典教材 第四版 风靡全球 是学习CMOS VLSI设计的好书本
与传感器相关的英语文献
05-05
与传感器相关的外文资料，可以作为外文文献翻译的资料。
CMOS模拟集成电路设计课程
集成电路设计那些事儿
03-24 2233
该课程即将开课，视频介绍地址：B站，youtube，搜同名即可。 https://www.youtube.com/watch?v=h_T2ZSEK6Vk&feature=youtu.be 未来发展战略：会以微信公众号“集成电路设计那些事儿”（英文名字：“IC_Design_Story”）为主体，依托各类一线工程师，科学家，硕博士，陆续发布集成电路设计类实战视频课程，未来计划开展：模拟AD...
《cmos大规模集成电路设计（英文影印版）（第3版）》图书详细资料信息 / china...
weixin_30647065的博客
01-04 1065
定价 ： ￥125.00 普通会员 ： ￥112.50 1-3星会员： ￥110.00 ...
cmos超大规模集成电路设计 第四版pdf
11-01
《CMOS超大规模集成电路设计 第四版》是一本关于CMOS VLSI（Complementary Metal-Oxide-Semiconductor Very Large-Scale Integration）电路设计的参考教材。该书是由美国的电气工程专家Neil H. E. Weste和David ...
评论
添加红包

请填写红包祝福语或标题

个

红包个数最小为10个

元

红包金额最低5元

当前余额3.43元 前往充值 >
需支付：10.00元
成就一亿技术人!
领取后你会自动成为博主和红包主的粉丝 规则
hope_wisdom
发出的红包
实付元
使用余额支付
点击重新获取
扫码支付
钱包余额 0

抵扣说明：

1.余额是钱包充值的虚拟货币，按照1:1的比例进行支付金额的抵扣。
2.余额无法直接购买下载，可以购买VIP、付费专栏及课程。

余额充值